Semiconductor Manufacturing တွင် Quartz ၏ ကွဲပြားသော Application များသည် အဘယ်နည်း။

သန့်စင်မှုမြင့်မားသော quartz ပစ္စည်းများသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းတွင် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ ၎င်းတို့၏ သာလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်၊ ချေးခံနိုင်ရည်၊ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် အလင်းပို့လွှတ်ခြင်း ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းတို့အား အရေးပါသော စားသုံးကုန်များကို ဖြစ်စေသည်။Quartz ထုတ်ကုန်များwafer ထုတ်လုပ်မှု၏ အပူချိန်မြင့် နှင့် အပူချိန်နိမ့်ဇုန် နှစ်ခုလုံးတွင် အစိတ်အပိုင်းများ အတွက် အသုံးပြုကြပြီး ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် သန့်ရှင်းမှုကို အာမခံပါသည်။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်း တိုးတက်ပြောင်းလဲလာသည်နှင့်အမျှ သန့်စင်မှုမြင့်မားသော quartz လိုအပ်ချက်သည် ဆက်လက်ကြီးထွားလာကာ ထုတ်လုပ်မှုနှင့် နည်းပညာတိုးတက်မှုများကို တွန်းအားပေးလျက်ရှိသည်။ ဤဆောင်းပါးသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် quartz ၏ အဓိကအသုံးချပရိုဂရမ်များနှင့် စျေးကွက်လမ်းကြောင်းများကို နက်ရှိုင်းစွာကြည့်ရှုပေးပါသည်။

Quartz ၏ဂုဏ်သတ္တိများ

• Quartz (Silicon Dioxide, SiO₂) သည် ၎င်း၏ ပြီးပြည့်စုံလုနီးပါးရှိသော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် ဓာတုဝိသေသလက္ခဏာများကြောင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာနယ်ပယ်တွင် အစားထိုး၍မရပါ။
• အလွန်အမင်းသန့်ရှင်းမှု- Semiconductor-grade quartz သည် ပုံမှန်အားဖြင့် 99.99% (4N) သို့မဟုတ် ထို့ထက်ပို၍ သန့်စင်မှု လိုအပ်ပြီး တစ်ခါတစ်ရံ 5N အထိ ရောက်ရှိသည်။ ၎င်းက သတ္တုအိုင်းယွန်းများ (ဥပမာ ဆိုဒီယမ်၊ ပိုတက်စီယမ်နှင့် သံ) သည် အပူချိန်မြင့်မားသော လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ဆီလီကွန် wafer များကို ရွှေ့ပြောင်းပြီး မညစ်ညမ်းစေကြောင်း သေချာစေသည်။
• အပူတည်ငြိမ်မှု- ခန့်မှန်းခြေအားဖြင့် 1730°C ပျော့ပျောင်းသောအချက်ဖြင့်၊ quartz သည် အပူချိန် 1100°C နှင့် 1250°C ကြားတွင် မြင့်မားသောပတ်ဝန်းကျင်တွင် ကြာရှည်စွာ တည်ငြိမ်စွာလည်ပတ်နိုင်သည်။ ၎င်းသည် ပျံ့နှံ့ခြင်းနှင့် ဓာတ်တိုးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် ပြီးပြည့်စုံသော အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေသည်။
• ဓာတုမသန်စွမ်းမှု- Quartz သည် hydrofluoric နှင့် hot phosphoric acid မှလွဲ၍ မည်သည့်အက်ဆစ်နှင့်မျှ ဓာတ်ပြုခြင်းမရှိပေ။ စိုစွတ်သောသန့်ရှင်းရေးနှင့် etching လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် စံပြသယ်ဆောင်သူအဖြစ် ဆောင်ရွက်ပါသည်။
• Low Thermal Expansion- ဤပိုင်ဆိုင်မှုသည် အလွန်အမင်း အပူသံသရာများအတွင်း ကွဲအက်ခြင်းမရှိကြောင်း သေချာစေပြီး တိကျသောထုတ်လုပ်မှုအတွက် အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။

2. Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုတွင် Quartz အစိတ်အပိုင်းများ၏ အဓိကအသုံးချမှုများ

A. Crystal Growth- Quartz Crucibles

wafer ထုတ်လုပ်ခြင်း၏ပထမအဆင့်တွင်- Czochralski (CZ) Method-polysilicon သည် quartz crucible အတွင်းရှိ အရည်ပျော်ရမည်။

Core Function- quartz crucible သည် သွန်းသော ဆီလီကွန်ကို တိုက်ရိုက် ဆက်သွယ်သည်။ အရည်အသွေးမြင့် Crucible များသည် အောက်ဆီဂျင်အလွန်အကျွံထုတ်လွှတ်မှုကို လျှော့ချပြီး monocrystalline silicon ingot အတွင်းရှိ အညစ်အကြေးပမာဏကို အနည်းဆုံးဖြစ်အောင် ထိန်းထားရန် သေချာစေပါသည်။

B. အပူပေးလုပ်ငန်းစဉ်များ- Quartz လှေများနှင့် မီးဖိုပြွန်များ

ပျံ့နှံ့မှု၊ ဓာတ်တိုးမှုနှင့် လိမ်းကျံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ ပျံ့နှံ့မှုမီးဖိုထဲသို့ဝင်ရောက်ရန်အတွက် wafers များကို quartz carriers များအတွင်း အသုတ်လိုက်ထည့်ထားသည်။

Core Function- Quartz Wafer Boat သည် wafer များကို တိကျစွာသယ်ဆောင်ရန် တာဝန်ရှိပြီး Quartz Furnace Tube သည် သန့်ရှင်းပြီး ထိန်းချုပ်ထားသော အပူချိန်မြင့်တုံ့ပြန်မှုပတ်ဝန်းကျင်ကို ပေးဆောင်ပါသည်။

C. Thin Film Deposition- Quartz Shower Heads & Chamber Parts

CVD (Chemical Vapor Deposition) နှင့် ALD (Atomic Layer Deposition) လုပ်ငန်းစဉ်များအတွင်း၊ တုံ့ပြန်ဓာတ်ငွေ့များကို လမ်းညွှန်ရန်နှင့် ဖြန့်ဝေရန်အတွက် quartz အစိတ်အပိုင်းများကို အသုံးပြုသည်။

Core Function- Quartz Shower Head သည် နာနိုမီတာစကေးပါးလွှာသော ဖလင်များ၏ တူညီမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အရေးကြီးသော wafer မျက်နှာပြင်ပေါ်သို့ ဂတ်စ်များကို တစ်ပြေးညီဖြန်းကြောင်း သေချာစေသည်။

D. စိုစွတ်သောသန့်ရှင်းရေး- Quartz ရေချိုးများ

photolithography မတိုင်မီနှင့် ပြီးနောက် သန့်ရှင်းရေးအဆင့်များအတွင်း၊ wafer များကို ဓာတုဗေဒပစ္စည်းအမျိုးမျိုးတွင် နှစ်မြှုပ်ထားရပါမည်။

Core Function- Quartz Baths များသည် ပြင်းထန်သော အက်ဆစ်ချေးများကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အမှုန်အမွှားများ ညစ်ညမ်းမှုကို မထုတ်လုပ်နိုင်သောကြောင့် ၎င်းတို့အား RCA သန့်ရှင်းရေး လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် စံတစ်ခုဖြစ်စေသည်။

3. Semiconductor Quartz အစိတ်အပိုင်းများ၏ စျေးကွက်ခွဲခြမ်းစိတ်ဖြာခြင်း။

နောက်ဆုံးပေါ်စက်မှုလုပ်ငန်းအချက်အလက်အရ၊ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ semiconductor quartz စျေးကွက်သည် လျင်မြန်စွာ တိုးတက်မှုကို တွေ့ကြုံနေရသည်-

4. စက်မှုလမ်းကြောင်းများ

Semiconductor လုပ်ငန်းစဉ်ကို ထပ်ခါထပ်ခါ ပြုလုပ်ခြင်းသည် ပစ္စည်း သန့်ရှင်းမှုတွင် လိုအပ်ချက်များကို တောင်းဆိုပါသည်။ 7nm နှင့် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော လုပ်ငန်းစဉ်များဖြင့် မောင်းနှင်ထားသော Synthetic Fused Silica သည် ၎င်း၏ အလွန်နည်းသော သတ္တုအညစ်အကြေးများနှင့် အလွန်ကောင်းမွန်သော ပလာစမာကို ခံနိုင်ရည်ရှိသောကြောင့် ထွင်းထုခြင်းနှင့် ပုံတူရိုက်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ရိုးရာသဘာဝ quartz ကို လျင်မြန်စွာ အစားထိုးပါသည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ စက်မှုလုပ်ငန်းသည် ပေါင်းစပ်တိကျသော စက်ယန္တရားများဆီသို့ ကူးပြောင်းနေသည်။ အလွန်တိကျသော CNC စွမ်းရည်များနှင့် သန့်စင်မြင့်မားသော ကုန်ကြမ်းပစ္စည်းများ ပေါင်းစပ်ထားသော ထုတ်လုပ်သူများသည် အနာဂတ်ပြိုင်ဆိုင်မှုတွင် မြင့်မားသောအချက်ကို ထိန်းထားနိုင်မည်ဖြစ်သည်။

ထို့အပြင်၊ အစိမ်းရောင်အစပျိုးခြင်းနှင့် ပြန်လည်အသုံးပြုခြင်းများသည် ကုန်ကျစရိတ်များကို လျှော့ချရန်နှင့် ထိရောက်မှုတိုးမြှင့်ရန်အတွက် Fabs အတွက် အဓိကလမ်းကြောင်းများဖြစ်လာပါသည်။ ESG စံနှုန်းများသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထောက်ပံ့ရေးကွင်းဆက်တွင် အလေးချိန်တိုးလာသည်နှင့်အမျှ၊ အရည်အသွေးမြင့် quartz အစိတ်အပိုင်းများကို တိကျစွာ ပြန်လည်ပြင်ဆင်ခြင်းနှင့် ပြန်လည်အသုံးပြုခြင်းသည် ပင်မလုပ်ငန်းပုံစံတစ်ခု ဖြစ်လာမည်ဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ကုမ္ပဏီများအား ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်ကို သက်သာစေပြီး ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ ကာဗွန်ကြားနေရေးပန်းတိုင်များကို ပြည့်မီရန် လိုအပ်သောရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ အဆင့်မြင့် သန့်ရှင်းရေးနည်းပညာများနှင့် မီးတောက်-ပြုပြင်ခြင်းဆိုင်ရာ ပြုပြင်နိုင်စွမ်းရှိသော quartz ကုမ္ပဏီများသည် သိသာထင်ရှားသော စျေးကွက်အခွင့်အလမ်းများနှင့် ရင်ဆိုင်ရမည်ဖြစ်သည်။

ထိပ်တန်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းရောင်းချသူအနေဖြင့် VeTek Semiconductor သည် quartz crucible များမှ တိကျသော quartz လှေများအထိ ဖြေရှင်းချက်အပြည့်အစုံကို ပေးဆောင်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များကို သာလွန်ကောင်းမွန်သောပစ္စည်းများနှင့် လက်မှုပညာဖြင့်ဖောက်သည်များအား လုပ်ငန်းစဉ်တည်ငြိမ်မှုနှင့် အထွက်နှုန်းတိုးတက်စေရန်အတွက် ရည်ရွယ်၍ အဓိကကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ OEM များနှင့် wafer Fabs များမှ ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုပါသည်။