QR ကုဒ်

ကြှနျုပျတို့အကွောငျး
ထုတ်ကုန်များ
ကြှနျုပျတို့ကိုဆကျသှယျရနျ
ဖက်စ်
+86-579-87223657
အီးမေး
လိပ်စာ
Wangda လမ်း၊ Ziyang လမ်း၊ Wuyi ကောင်တီ၊ Jinhua မြို့၊ Zhejiang ပြည်နယ်၊ တရုတ်နိုင်ငံ
VeTek Semiconductor သည် photovoltaic နှင့် semiconductor လုပ်ငန်းများအတွက် တီထွင်ဆန်းသစ်သော ဖြေရှင်းချက်များအား တီထွင်ထုတ်လုပ်ရာတွင် အထူးပြုထားသော အရည်အသွေးမြင့် ဂရပ်ဖိုက်ပျော့ပျော့များကို ပရော်ဖက်ရှင်နယ်ထုတ်လုပ်သူဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ R&D အဖွဲ့သည် အတွေ့အကြုံရှိပြီး ဆန်းသစ်တီထွင်သော ကျွမ်းကျင်သူများအဖွဲ့ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် ဂရပ်ဖိုက်အပျော့စား၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ရန်နှင့် စက်မှုလုပ်ငန်း၏ တိုးတက်ပြောင်းလဲနေသော လိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းပေးရန် ကတိကဝတ်ပြုထားသော နည်းပညာအသစ်များနှင့် အသုံးချပရိုဂရမ်များကို အဆက်မပြတ် ရှာဖွေနေပါသည်။
1. အထူးကောင်းမွန်သော insulation စွမ်းဆောင်ရည်- ၎င်းသည် အပူဆုံးရှုံးမှုကို ထိထိရောက်ရောက် လျှော့ချနိုင်ပြီး စက်ပစ္စည်းများအတွင်း တည်ငြိမ်သောအပူချိန်ကို ထိန်းသိမ်းကာ စွမ်းအင်သုံးစွဲမှုကို လျှော့ချနိုင်သည်။
2. ကောင်းမွန်သောအပူချိန်ခုခံမှု- ပျော့ပျောင်းသောခံစားမှုသည် မြင့်မားသောအပူချိန်အခြေအနေများအောက်တွင် တည်ငြိမ်သောရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် ဓာတုဂုဏ်သတ္တိများကို ထိန်းသိမ်းနိုင်ပြီး photovoltaic နှင့် semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် မြင့်မားသောအပူချိန်ပတ်ဝန်းကျင်များကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။
3. နိမ့်သောအပူစီးကူးမှု- တိကျသောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုအောင်မြင်ရန်၊ လုပ်ငန်းစဉ်တည်ငြိမ်မှုနှင့် ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ရန် ကူညီပေးသည်။
4. မြင့်မားသော ဓာတုဗေဒ တည်ငြိမ်မှု- ၎င်းသည် ဓာတုပစ္စည်း အများစုကို ကောင်းစွာ ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အလွယ်တကူ ပုပ်သွားခြင်း သို့မဟုတ် ညစ်ညမ်းခြင်း မရှိပေ။
5. မြင့်မားသော သန့်စင်မှု- photovoltaic နှင့် semiconductor ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အညစ်အကြေးများ ဝင်ရောက်စွက်ဖက်မှုကို လျော့နည်းစေပြီး ထုတ်ကုန်၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် အရည်အသွေးကို အာမခံပါသည်။
6. ကောင်းမွန်သော အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်- လျင်မြန်သော အပူချိန်ပြောင်းလဲမှုများကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အလွယ်တကူ ပေါက်ပြဲခြင်း သို့မဟုတ် ပျက်စီးခြင်းတို့ကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။
1. ပုံဆောင်ခဲတစ်ခုတည်းမီးဖို၏ အပူပိုင်းအကွက်များ- Czochralski တစ်ခုတည်းသောပုံဆောင်ခဲမီးဖိုတွင်၊ ဂရပ်ဖိုက်အပျော့စားခံစားမှုကို မီးဖိုအတွင်းရှိ အပူချိန် gradient ကို ထိထိရောက်ရောက်ထိန်းသိမ်းရန်၊ ပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမှု၏ အရည်အသွေးနှင့် တည်ငြိမ်မှုကို မြှင့်တင်ရန် လျှပ်ကာပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုနိုင်သည်။
2. Polycrystalline ingot မီးဖို- အပူလျှပ်ကာပစ္စည်းတစ်ခုအနေဖြင့်၊ ၎င်းသည် အပူဆုံးရှုံးမှုကို လျှော့ချပေးကာ အပူဓာတ်ဖြန့်ဖြူးမှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေကာ polycrystalline silicon ingots များ၏ အရည်အသွေးနှင့် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
3. Diffusion furnace : မီးဖိုအတွင်း အပူချိန်တူညီမှုရှိစေရန်၊ လျှပ်ကာအတွက်အသုံးပြုပြီး ပျံ့နှံ့မှုလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ တိကျမှုနှင့် ညီညွတ်မှုကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေပါသည်။
4. Epitaxial မီးဖို- epitaxial ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်အတွက် တည်ငြိမ်သောအပူပတ်ဝန်းကျင်ကို ထောက်ပံ့ပေးပြီး semiconductor epitaxial အလွှာများ၏ အရည်အသွေးအပေါ် အပူချိန်အတက်အကျများကို လျှော့ချပေးသည်။
5. Semiconductor ထုပ်ပိုးခြင်း- အချို့သော အဆင့်မြင့် semiconductor ထုပ်ပိုးမှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ ၎င်းသည် insulation, buffering, and support, ချစ်ပ်များကို အပူနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဖိစီးမှုဒဏ်မှ ကာကွယ်ပေးသည်။
6. Photovoltaic ဆဲလ်ထုတ်လုပ်သည့်ကိရိယာများ- ဥပမာ- ပလာစမာအဆင့်မြှင့်တင်ထားသော ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PECVD) ပစ္စည်းကိရိယာများ၊ စက်ပစ္စည်းအတွင်းမှ အပူချိန်တည်ငြိမ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန်နှင့် ပါးလွှာသောဖလင်အစစ်ခံခြင်း၏ အရည်အသွေးကို သေချာစေရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။
+86-579-87223657
Wangda လမ်း၊ Ziyang လမ်း၊ Wuyi ကောင်တီ၊ Jinhua မြို့၊ Zhejiang ပြည်နယ်၊ တရုတ်နိုင်ငံ
မူပိုင်ခွင့် © 2024 VeTek Semiconductor Technology Co., Ltd All Rights Reserved.
Links | Sitemap | RSS | XML | Privacy Policy |