သတင်း

ကုမ္ပဏီသတင်း

VETEK New Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံသည် Cleanroom ဆောက်လုပ်ရေးအဆင့်သို့ ဝင်ရောက်သည်။13 2026-06

VETEK New Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံသည် Cleanroom ဆောက်လုပ်ရေးအဆင့်သို့ ဝင်ရောက်သည်။

VETEK ၏ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့်စက်ရုံအသစ်သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအဆင့် သန့်စင်ခန်းဆောက်လုပ်ရေးအဆင့်သို့ ဝင်ရောက်လာခဲ့သည်။ ဆိုက်အသစ်သည် CVD SiC coated graphite အစိတ်အပိုင်းများ၊ TaC coatings၊ PyC coatings၊ Solid SiC အစိတ်အပိုင်းများနှင့် semiconductor applications များအတွက် သန့်ရှင်းသော ဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ခြင်းကို ပံ့ပိုးပေးမည်ဖြစ်ပါသည်။
SNEC 2026 Shanghai တွင် VeTek Semiconductor- မျိုးဆက်သစ် နေရောင်ခြည် ထုတ်လုပ်မှုအတွက် တိုးတက်မှု ပစ္စည်းများ05 2026-06

SNEC 2026 Shanghai တွင် VeTek Semiconductor- မျိုးဆက်သစ် နေရောင်ခြည် ထုတ်လုပ်မှုအတွက် တိုးတက်မှု ပစ္စည်းများ

VeTek Semiconductor သည် SNEC 2026 Shanghai မှ အဓိကကျသော ထိုးထွင်းသိမြင်မှုကို မျှဝေထားပြီး သန့်စင်မြင့်ဂရပ်ဖိုက်များ၊ CVD SiC ဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားသော ဂရပ်ဖိုက်အစိတ်အပိုင်းများ၊ ကာဗွန်ပေါင်းစပ်ပါဝင်မှုများနှင့် မျိုးဆက်သစ်နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံး ထုတ်လုပ်ရေးနှင့် ဓါတ်ပုံဗော့တေးရှင်းထုတ်လုပ်မှုတို့ကို ပံ့ပိုးပေးသည့် အဆင့်မြင့်အပူဓာတ်ပစ္စည်းများကို မျှဝေပါသည်။
VETEK သည် Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်၏ ထိပ်တန်းထုတ်သည့် အခမ်းအနားအား ဂုဏ်ပြုသည်။29 2026-05

VETEK သည် Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်၏ ထိပ်တန်းထုတ်သည့် အခမ်းအနားအား ဂုဏ်ပြုသည်။

VETEK သည် ၎င်း၏တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်၏ ထိပ်တန်းအဆင့်မြှင့်တင်ခြင်းအခမ်းအနားကိုကျင်းပပြီး အဆင့်မြင့် SiC၊ TaC နှင့် PyC အပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာများ၊ Solid SiC အစိတ်အပိုင်းများ၊ သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော ဂရပ်ဖိုက်အစိတ်အပိုင်းများနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာအပူစက်ကွင်းပစ္စည်းများအတွက် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်ကို တိုးချဲ့ကျင်းပပါသည်။
X
သင့်အား ပိုမိုကောင်းမွန်သောကြည့်ရှုမှုအတွေ့အကြုံကို ပေးဆောင်ရန်၊ ဆိုက်အသွားအလာကို ပိုင်းခြားစိတ်ဖြာပြီး အကြောင်းအရာကို ပုဂ္ဂိုလ်ရေးသီးသန့်ပြုလုပ်ရန် ကျွန်ုပ်တို့သည် ကွတ်ကီးများကို အသုံးပြုပါသည်။ ဤဆိုက်ကိုအသုံးပြုခြင်းဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ cookies အသုံးပြုမှုကို သင်သဘောတူပါသည်။ကိုယ်ရေးအချက်အလက်မူဝါဒ
ငြင်းပယ်ပါ။လက်ခံပါတယ်။