ပံ့ပိုးမှုဝန်ဆောင်မှု

VeTek Semiconductor သည် မျိုးဆက်သစ် ultra-wide-bandgap semiconductor စက်ပစ္စည်းများအတွက် အရည်အသွေးမြင့် အလူမီနီယမ်နိုက်ထရိတ် (AlN) တစ်ခုတည်းသော သလင်းခဲ wafers များနှင့် အလွှာများကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ ခန့်မှန်းခြေအားဖြင့် 6.2 eV ၏ အလွန်ကျယ်ဝန်းသော bandgap ၊ ထူးထူးခြားခြား အပူစီးကူးနိုင်မှု၊ ထူးခြားသောလျှပ်စစ် ကာရံများနှင့် GaN နှင့် ကောင်းမွန်သော ရာဇမတ်ကွက်များ နှင့် အပူ-ချဲ့ထွင်မှုတို့နှင့်အတူ AlN wafers များသည် စွမ်းအားမြင့် RF စက်များ၊ ဗို့အားမြင့်လျှပ်စစ်ပစ္စည်းများနှင့် နက်ရှိုင်းသော ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် (DUV) optoelectronics များအတွက် စံပြဖြစ်သည်။

CVD SiC Coated Graphite Parts အတွက် VETEK Professional Cleaning Service သည် GaN / AlN / AlGaN epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးပြုသော Aixtron / Veeco MOCVD စက်ကိရိယာများနှင့် ဂရပ်ဖိုက်အစိတ်အပိုင်းများအတွက် အထူးပြုနည်းပညာဝန်ဆောင်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ကိုယ်ပိုင်သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်သည် မျက်နှာပြင်မှတ်ဉာဏ်အကျိုးသက်ရောက်မှုကို နှိုက်နှိုက်ချွတ်ချွတ်ဖယ်ရှားပေးကာ ဓာတ်ပေါင်းဖိုအတွင်း တည်ငြိမ်သောဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုကို ပြန်လည်ရရှိကာ 100 µm CVD SiC အပေါ်ယံပိုင်းကို လုံးဝအထူလုံးဝအထူဆုံးရှုံးမှုနှင့် သုညသတ္တုအကြွင်းအကျန်များဖြင့် တင်းကြပ်စွာကာကွယ်ပေးပါသည်။

မြင့်မားသော အာရုံခံနိုင်စွမ်းနှင့် စွမ်းအားနည်း MEMS transducers များ သည် 5G ဆက်သွယ်ရေး၊ တိကျသော ဆေးဘက်ဆိုင်ရာ ကိရိယာများနှင့် စမတ်ဝတ်ဆင်နိုင်သော ကိရိယာများ တိုးချဲ့မှုနှင့်အတူ ကြီးထွားလာသည်နှင့်အမျှ Si/SOI wafers ပေါ်ရှိ ကျွန်ုပ်တို့၏ PZT သည် အရေးပါသော ပစ္စည်းဖြေရှင်းချက်ကို ပေးစွမ်းပါသည်။ Sol-gel သို့မဟုတ် sputtering ကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့် ပါးလွှာသော ဖလင် စုဆောင်းခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်များကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့သည် ဆီလီကွန်အလွှာများပေါ်တွင် ထူးထူးခြားခြား လိုက်လျောညီထွေရှိပြီး သာလွန်ကောင်းမွန်သော ပီဇိုလျှပ်စစ်စွမ်းဆောင်မှုကို ရရှိပါသည်။ ဤ wafers များသည် လျှပ်စစ်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ စွမ်းအင်ပြောင်းလဲခြင်းအတွက် အခြေခံ အူတိုင်အဖြစ် ဆောင်ရွက်ပါသည်။

Silicon Carbide Crystal ကြီးထွားမှုသည်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသော semiconductor device များထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်အဓိကဖြစ်စဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ Crystal ကြီးထွားလာသောပစ္စည်းကိရိယာများကိုတည်ငြိမ်အေးချမ်းရေးနှင့်သဟဇာတဖြစ်မှုနှင့်သဟဇာတတေးအောင်ပြုလုပ်ခြင်းသည်ဆီလီကွန်ကာဘက်ကာလက် ingots ၏အရည်အသွေးနှင့်အထွက်နှုန်းကိုတိုက်ရိုက်ဆုံးဖြတ်ပါ။ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးဝိသေသလက္ခဏာများ (PVT) နည်းပညာ၏ဝိသေသလက္ခဏာများအပေါ် အခြေခံ. Veteksemi သည် Silicon Carbide Carbide Crystal Crystal အတွက်ခုခံကာကွယ်မှုအပူချိန် 6 လက်မ, 8 လက်မ, အပူချိန်, ဖိအားနှင့်ပါဝါကိုတိကျသောထိန်းချုပ်မှုမှတဆင့် EPD (pit pherity) နှင့် BPD (Basal လေယာဉ် dislocation) နှင့် BPD (Basal လေယာဉ် dislocation) နှင့် BPD (Basal လေယာဉ် dislocation) နှင့်ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသောဒီဇိုင်းများကိုထိရောက်စွာလျှော့ချသည်။

CMP polish slurry (ဓာတုစက်မှုဖြူပ် slurry slurry) သည် semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့်တိကျသောပစ္စည်းပြုပြင်ခြင်းများတွင်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောပစ္စည်းဖြစ်သည်။ ၎င်း၏အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်မှာ Nano Level တွင်ပြားချပ်ချပ်နှင့်မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးလိုအပ်ချက်များနှင့်ပြည့်နှက်နေသောဓာတုဓာတ်အားပေးယူခြင်းနှင့်စက်ပစ္စည်းကြိတ်ခွဲခြင်းတို့၏ညှိနှိုင်းမှုနှင့်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာကြိတ်ခွဲခြင်းများအရရုပ်ပစ္စည်းမျက်နှာပြင်၏ကောင်းမွန်သောပြားချပ်ချပ်နှင့် plantsing ကိုအောင်မြင်ရန်ဖြစ်သည်။ သင့်ရဲ့နောက်ထပ်တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုကိုမျှော်လင့်နေပါတယ်။

ဦး ဆောင်တရုတ် SIC Wafer ထုတ်လုပ်သူများနှင့်ပေးသွင်းသူများအနေဖြင့် Vetek Semiconductor CVD SicMy Wafer ၏ရည်ရွယ်ချက်အတွက်အဓိကအားဖြင့် Silicon Wafer စမ်းသပ်ခြင်းနှင့် wafer စမ်းသပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ရည်ရွယ်ချက်အတွက်အဓိကအသုံးပြုသော Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်အထူးပြုကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ သင်၏နောက်ထပ်မေးမြန်းစုံစမ်းလိုများကိုကြိုဆိုပါတယ်။