ICP/PSS Etching လုပ်ငန်းစဉ်

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Etching Process Wafer Carrier သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်း၏ etching လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ တောင်းဆိုမှုလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီစေရန် အထူးဒီဇိုင်းထုတ်ထားပါသည်။ ၎င်း၏အဆင့်မြင့်အင်္ဂါရပ်များဖြင့်၊ ၎င်းသည် ထွင်းထုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက် အကောင်းဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်၊ ထိရောက်မှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို သေချာစေသည်။

VeTek Semiconductor ICP/PSS Etching Process Susveptors ၏ အားသာချက်-

ပိုမိုကောင်းမွန်သော ဓာတုသဟဇာတဖြစ်မှု- ထွင်းထုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ ဓာတုဗေဒပစ္စည်းများနှင့် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတုသဟဇာတဖြစ်မှုကို ပြသသည့် wafer carrier ကို အသုံးပြု၍ တည်ဆောက်ထားသည်။ ၎င်းသည် ကျယ်ပြန့်သော etchants၊ strippers များကိုခံနိုင်ရည်ရှိသော၊ နှင့် သန့်ရှင်းရေးဖြေရှင်းချက်များနှင့် လိုက်ဖက်မှုရှိစေပြီး ဓာတုတုံ့ပြန်မှု သို့မဟုတ် ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်ကို အနည်းဆုံးဖြစ်စေသည်။

မြင့်မားသောအပူချိန်ခုခံမှု- ထွင်းထုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ကြုံတွေ့ရသည့် မြင့်မားသောအပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိသော wafer သယ်ဆောင်သည့်ပုံစံဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ၎င်း၏ဖွဲ့စည်းပုံဆိုင်ရာ ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ကြံ့ခိုင်မှုကို ထိန်းသိမ်းထားပြီး အလွန်အမင်း အပူရှိန်အခြေအနေအောက်တွင်ပင် ပုံပျက်ခြင်း သို့မဟုတ် ပျက်စီးခြင်းမှ ကာကွယ်ပေးသည်။

Superior Etch Uniformity- သယ်ဆောင်သူသည် wafer မျက်နှာပြင်တစ်လျှောက်တွင် ထုထည်နှင့်ဓာတ်ငွေ့များ တစ်ပြေးညီ ဖြန့်ကျက်မှုကို အားပေးသည့် တိကျသော အင်ဂျင်နီယာဒီဇိုင်းဖြင့် ပါရှိသည်။ ၎င်းသည် တိကျသောနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရသော ထွင်းထုမှုရလဒ်များရရှိရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အရည်အသွေးမြင့်၊ တူညီသောပုံစံများကို ရရှိစေပါသည်။

အထူးကောင်းမွန်သော Wafer တည်ငြိမ်မှု- ကယ်ရီယာသည် တည်ငြိမ်သောနေရာချထားမှုကိုသေချာစေပြီး ကြေးချွတ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း wafer လှုပ်ရှားမှု သို့မဟုတ် ချော်ထွက်ခြင်းကို ကာကွယ်ပေးသည့် လုံခြုံသော wafer ကိုင်ဆောင်ထားသည့် ယန္တရားတစ်ခုပါ၀င်သည် ။ ၎င်းသည် တိကျပြီး ထပ်တလဲလဲ ထွင်းထုထားသော ပုံစံများကို အာမခံသည်၊ ချွတ်ယွင်းချက်များနှင့် အထွက်နှုန်းဆုံးရှုံးမှုများကို လျှော့ချပေးသည်။

Cleanroom လိုက်ဖက်ညီမှု- wafer carrier သည် တင်းကျပ်သော cleanroom စံချိန်စံညွှန်းများနှင့်ကိုက်ညီစေရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ ၎င်းတွင် အမှုန်အမွှားများထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် ကောင်းမွန်သောသန့်ရှင်းမှုတို့ပါ၀င်ပြီး etching လုပ်ငန်းစဉ်၏ အရည်အသွေးနှင့် အထွက်နှုန်းကို ထိခိုက်စေနိုင်သည့် အမှုန်အမွှားများ ညစ်ညမ်းမှုကို ကာကွယ်ပေးပါသည်။ ညစ်ညမ်းမှုသည် 5ppm အောက်တွင်ရှိသည်။

ခိုင်ခံ့ပြီး တာရှည်ခံသော ဆောက်လုပ်ရေး- သယ်ဆောင်သူသည် ၎င်းတို့၏ တာရှည်ခံမှုနှင့် တာရှည်သက်တမ်းအတွက် လူသိများသည့် အရည်အသွေးမြင့်ပစ္စည်းများကို အသုံးပြု၍ အင်ဂျင်နီယာချုပ်လုပ်ထားသည်။ ၎င်းသည် ထပ်ခါတလဲလဲ အသုံးပြုခြင်းနှင့် ပြင်းထန်သော သန့်ရှင်းရေး လုပ်ငန်းစဉ်များကို ၎င်း၏ စွမ်းဆောင်ရည် သို့မဟုတ် တည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ခိုင်မာမှုကို မထိခိုက်စေဘဲ ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သော ဒီဇိုင်း- ကျွန်ုပ်တို့သည် ဖောက်သည်လိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီစေရန် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သော ရွေးချယ်မှုများကို ပေးဆောင်ပါသည်။ ကယ်ရီယာအား မတူညီသော wafer အရွယ်အစား၊ အထူများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် သတ်မှတ်ချက်များ လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေရန်၊ အမျိုးမျိုးသော etching ကိရိယာများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်များနှင့် လိုက်လျောညီထွေရှိစေရန် အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေနိုင်သည်။

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် etching လုပ်ငန်းစဉ်ကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော ကျွန်ုပ်တို့၏ ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier ၏ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို ခံစားလိုက်ပါ။ ၎င်း၏ ပိုမိုကောင်းမွန်သော ဓာတုသဟဇာတဖြစ်မှု၊ အပူချိန်မြင့်မားသော ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ သာလွန်ကောင်းမွန်သော ထုထည်တူညီမှု၊ ကောင်းမွန်သော wafer တည်ငြိမ်မှု၊ သန့်စင်ခန်းလိုက်ဖက်မှု၊ ခိုင်ခံ့သောတည်ဆောက်မှုနှင့် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သော ဒီဇိုင်းတို့က ၎င်းကို သင်၏ etching applications များအတွက် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်စေသည်။

PSS Etching Plate ICP Etching Plate ICP Etching Susceptor