High Purity Quartz Wafer Carrier

1. အဓိကအင်္ဂါရပ်များနှင့် အားသာချက်များ

• ppb အဆင့်တွင် ထိန်းချုပ်ထားသော သတ္တုအညစ်အကြေးများဖြင့် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရှိသော dehydroxylated fused quartz (SiO₂ ≥ 99.999%)၊

• ရေရှည်လည်ပတ်မှုအပူချိန် 1100 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိ; ရေတို 1200°C အထိ အမြင့်ဆုံး ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

• မကြာခဏ အပူချိန် စက်ဘီးစီးခြင်းတွင် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်နှင့် အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှု

• ဓာတ်တိုးခြင်း လုပ်ငန်းစဉ် ဓာတ်ငွေ့များနှင့် ဘုံစိုစွတ်သော ဓာတုပစ္စည်းများ (HF၊ H₂O₂၊ အက်ဆစ်/အယ်ကာလီများ) ကို ဆန့်ကျင်သည့် ပြင်းထန်သော ဓာတုဗေဒ အားနည်းမှု၊

• တူညီသော wafer အထောက်အပံ့နှင့် အစွန်းပျက်စီးမှုကို လျှော့ချရန်အတွက် လုံးဝန်းသောအစွန်းများပါရှိသော မြင့်မားသောချောမွေ့မှုနှင့် တိကျသောမြေမျက်နှာပြင်

• ဖုန်စုပ်စုပ်ထုတ်မှုနည်းပြီး မျက်နှာပြင်စုပ်ယူမှုနည်းသည်—တိကျသောလေဟာနယ်လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။

• အပြည့်အဝ စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သော ဖွဲ့စည်းပုံများ- အစိုင်အခဲ သယ်ဆောင်သူများ၊ အပေါက်ဖောက်ထားသော/ လေဝင်လေထွက် ဒီဇိုင်းများ၊ ခြေလှမ်းများဖြင့် တည်နေရာရှာဖွေခြင်း အင်္ဂါရပ်များ၊ အပေါက်များ နေရာချထားခြင်းများ၊ အချက်ပေါင်းများစွာ ပံ့ပိုးမှုများ၊ နှင့် 2-12 လက်မ wafers အတွက် ထူထဲသော ပုံပျက်ခြင်း ဆန့်ကျင်ရေး ဒီဇိုင်းများ

2. ရိုးရိုးအပလီကေးရှင်းများ

မြင့်မားသောအပူချိန် သို့မဟုတ် ပြင်းထန်သောဓာတုဗေဒအရ သန့်စင်သော၊ အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်သောပံ့ပိုးမှုလိုအပ်သည့်နေရာတိုင်းတွင် ဤသယ်ဆောင်ပေးသူများကို အသုံးပြုသည်-

• ပျံ့ခြင်းနှင့် နှိမ့်ချသော မီးဖိုကို ဆွဲတင်ခြင်း။

• PECVD နှင့် LPCVD ရုပ်ရှင်တိုးတက်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များကို ပံ့ပိုးကူညီခြင်း။

• ဖုန်စုပ်ခန်းနှင့် အပူချိန်မြင့်သည့် ကိရိယာတန်ဆာပလာများ

• ကမ္ပည်းအခြောက်ခံပြီး စိုစွတ်သန့်ရှင်းသော ဘူတာရုံများ

• SiC နှင့် GaN ပါဝါ-စက်အပူပေးခြင်း

• Optoelectronic substrate ကိုင်တွယ်ခြင်းနှင့် ဓာတ်ခွဲခန်း အပူပေးကိရိယာများ

3. အဓိက နည်းပညာဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များ

• အခြေခံပစ္စည်း- semiconductor-grade dehydroxylated fused quartz၊ SiO₂ ≥ 99.999%

• တွဲဖက်အသုံးပြုနိုင်သော wafer အရွယ်အစား- 2၊ 4၊ 6၊ 8 နှင့် 12 လက်မ (Si၊ SiC၊ GaN၊ နီလာ)

• အကြံပြုထားသည့် စဉ်ဆက်မပြတ် အပူချိန်အကွာအဝေး- −20°C မှ 1100°C; ကာလတို အမြင့်ဆုံး 1200 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိ

• ထုတ်လုပ်မှုလမ်းကြောင်း- တစ်ပိုင်းတစ်စ ပုံဖော်ခြင်း၊ တိကျသော မျက်နှာပြင်ကြိတ်ခြင်း၊ အစွန်းများ ဝိုင်းစက်ခြင်း၊ ဖိစီးမှု သက်သာစေခြင်း နှင့် အလွန်သန့်ရှင်းသော နောက်ဆုံးသန့်ရှင်းရေး

• ရရှိနိုင်သောဖွဲ့စည်းပုံများ- အစိုင်အခဲ၊ လေဝင်လေထွက်/ဖောက်ထွင်းခံရခြင်း၊ အဆင့်ဆင့်ရှာဖွေခြင်း၊ အပေါက်ပုံစံနှင့် စိတ်ကြိုက်ဂျီသြမေတြီများ အပြည့်အစုံ

• စွမ်းဆောင်ရည် အာရုံစူးစိုက်မှု- မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှု၊ ချေးခံနိုင်ရည်၊ မျက်နှာပြင် ပြားချပ်ချပ်၊ ဓာတ်ငွေ့ထွက်ရှိမှု နည်းပါးခြင်းနှင့် ရေရှည်ထိန်းထားမှု

• စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ခြင်းနယ်ပယ်- အပြင်အတိုင်းအတာ၊ အထူ၊ ဂျီသြမေတြီပံ့ပိုးမှု၊ အပေါက်အပြင်အဆင်နှင့် ဖောက်သည်ပုံများပေါ်အခြေခံ၍ အထူးအင်္ဂါရပ်များ

4. VeTek High Purity Quartz Wafer Carriers များကို ဘာကြောင့် ရွေးချယ်တာလဲ။

Semiconductor Quartz အစိတ်အပိုင်းများကို ပရော်ဖက်ရှင်နယ် ထုတ်လုပ်သူအနေဖြင့် VeTek Semiconductor မှ ကမ်းလှမ်းသည်-

• High Purity Quartz Wafer Carriers များသည် အပူ၊ ဖုန်စုပ်စက် နှင့် စိုစွတ်သော လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အင်ဂျင်နီယာချုပ်များ

• တင်းကျပ်သော သန့်ရှင်းမှု ထိန်းချုပ်မှု၊ မျက်နှာပြင် ညီညာမှုနှင့် သန့်ရှင်းမှုသည် အဆင့်မြင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက် သင့်လျော်သည်။

• မီးဖိုခန်း၊ အခန်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ဆိုင်ရာ ကိရိယာတန်ဆာပလာများအတွက် အပြည့်အဝ စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်ခြင်းနှင့် OEM လိုက်ဖက်သော ဒီဇိုင်းများ

• မီးဖိုပြွန်များ၊ wafer လှေများ၊ crucibles နှင့် အခြားသော လုပ်ငန်းစဉ် အစိတ်အပိုင်းများ အပါအဝင် ဖြည့်စွက် semiconductor quartz ထုတ်ကုန်များ

ကျွန်ုပ်တို့၏ High Purity Quartz Wafer Carriers များသည် တူညီသောအပူထိတွေ့မှုကို ထိန်းသိမ်းရန်၊ အမှုန်အမွှားများနှင့် သတ္တုညစ်ညမ်းမှုကို လျှော့ချရန်နှင့် စဉ်ဆက်မပြတ် အပူချိန်မြင့်မားပြီး သံချေးတက်သော လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများအောက်တွင် ကိရိယာ၏သက်တမ်းကို တိုးမြှင့်ပေးသည်—ပိုမိုမြင့်မားသောအထွက်နှုန်းနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှုတွင် ပိုင်ဆိုင်မှုကုန်ကျစရိတ်သက်သာခြင်းကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။