ald fused quartz pedestal

Vetek Semiconductor ald fused semiconducture ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အဓိကအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်Quartz လှေကိုင်ရန်အသုံးပြုသည်။ညှစ်. Fused Quartz Pedestal သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို တိုက်ရိုက်ထိခိုက်စေသည့် တည်ငြိမ်သောအပူချိန်ကို ထိန်းသိမ်းထားခြင်းဖြင့် တစ်ပြေးညီဖလင်များ အစစ်ခံမှုကို ရရှိစေရန် ကူညီပေးပါသည်။ ထို့အပြင်၊ Quartz Pedestal သည် လုပ်ငန်းစဉ်ခန်းအတွင်း အပူနှင့်အလင်းကို တစ်ပြေးညီခွဲဝေပေးကြောင်း သေချာစေကာ အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ အလုံးစုံအရည်အသွေးကို တိုးတက်စေသည်။

Ald fused quartz pedeartz pedeption ပစ္စည်းအားသာချက်များ

မြင့်မားသောအပူချိန်ခုခံမှု: ပေါင်းထားသော quartz အောက်ခံခုံ၏ပျော့ပြောင်းသည့်နေရာသည် 1730°C ခန့်မြင့်ပြီး မြင့်မားသောအပူချိန် 1100°C မှ 1250°C အထိ ကြာရှည်ခံနိုင်ကာ အပူချိန်လွန်ကဲသောပတ်ဝန်းကျင်နှင့် 1450°C အထိ ထိတွေ့နိုင်သည်။ အချိန်တိုအတွင်း

အလွန်ကောင်းမွန်သော Corrosion Resistance: Hydrofluoric acid မှအပ agartz fused quartz အားလုံး acids အားလုံးနီးပါးမှအလွန်အမင်း inert ဖြစ်ပါတယ်။ အက်ဆစ်ခုခံမှုသည်ကြွေထည်များထက်အဆ 30 ပိုမိုမြင့်မားပြီးသံမဏိထက်အဆ 150 ပိုမိုများပြားသည်။ Fusus Quartz သည်အပူတပြင်းမြင့်မားသောအပူချိန်တွင်ဓာတုဗေဒအရမကင်းစင်ပြီးရှုပ်ထွေးသောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက်စံပြပစ္စည်းများဖြစ်သည်။

အပူတည်ငြိမ်မှု: Fused Quartz Pedestal ပစ္စည်း၏ အဓိကအင်္ဂါရပ်မှာ အပူချဲ့ထွင်ခြင်း၏ အလွန်နိမ့်ကျသော ကိန်းဂဏန်းဖြစ်သည်။ ဆိုလိုသည်မှာ ကွဲအက်ခြင်းမရှိဘဲ သိသိသာသာ အပူချိန်အတက်အကျများကို အလွယ်တကူ ကိုင်တွယ်ဖြေရှင်းနိုင်သည်ဟု ဆိုလိုသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ ပေါင်းစပ်ထားသော ဆီလီကာ quartz ကို 1100°C တွင် လျင်မြန်စွာ အပူပေးပြီး အပျက်အစီးမရှိဘဲ ရေအေးထဲတွင် တိုက်ရိုက်နှစ်မြှုပ်နိုင်ပြီး၊ စိတ်ဖိစီးမှုမြင့်မားသော ထုတ်လုပ်မှုအခြေအနေများတွင် အရေးကြီးသောအင်္ဂါရပ်တစ်ခုဖြစ်သည်။

တင်းကျပ်သောကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်: fuse silica အောက်ခံထားသောထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်သည်အရည်အသွေးမြင့်မားသောစံနှုန်းများကိုတင်းကြပ်စွာလိုက်နာသည်။ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်သည်များသောအားဖြင့် Clireom 10000 ပတ် 0 န်းကျင်တွင်အများအားဖြင့်ပြီးစီးခဲ့သောပူခြင်းနှင့်ဂဟေဆော်မှုဖြစ်စဉ်များကိုအသုံးပြုသည်။ ထို့နောက် fuse quartz ဖန် plote ကို puart peduchal သည် Producture ရေ (18 Mω) ဖြင့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောရေသန့်စင်ခြင်းနှင့်အကောင်းဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်ကိုသေချာစေရန်။ ချောချောမွေ့မွေ့သောထုတ်ကုန်တစ်ခုစီသည် Semiconductor Industry ၏မြင့်မားသောစံနှုန်းများနှင့်ကိုက်ညီရန်အတန်း 1000 သို့မဟုတ်ထိုထက်မြင့်သောသန့်ရှင်းရေးခန်းမတစ်ခုစီတွင်တိကျသောစစ်ဆေးမှု,

မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော silica quartz ပစ္စည်း

VeTeksemi ALD Fused Quartz Pedestal သည် အပူနှင့် အလင်းရောင်ကို ထိထိရောက်ရောက် ခွဲထုတ်ရန် မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရှိသော ရောင်စုံ quartz ပစ္စည်းကို အသုံးပြုထားသည်။ ၎င်း၏ အစွမ်းထက်သော အပူအကာအကွယ်ပေးခြင်းနှင့် အလင်းအကာအကွယ်ပေးခြင်း ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းကို လုပ်ငန်းစဉ်ခန်းအတွင်း တူညီသောအပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်ကာ ပါးလွှာညီညွှတ်မှုနှင့် တစ်သမတ်တည်းဖြစ်မှုတို့ကို သေချာစေသည်။ရုပ်ရှင်အစစ်ခံခြင်း။အဆိုပါ wafer မျက်နှာပြင်ပေါ်မှာ။

လျှောက်လွှာလယ်ကွင်း

Fused Quartz ခြေနင်းများကို ၎င်းတို့၏ ထူးချွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်ကြောင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းနယ်ပယ်များစွာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုကြသည်။ ၌atomic layer deposition (ALD) လုပ်ငန်းစဉ်၎င်းသည်ရုပ်ရှင်ကြီးထွားမှု၏တိကျသောထိန်းချုပ်မှုကိုအထောက်အကူပြုသည်။ အတွက်ဖိအားနိမ့်ဓာတုအခိုးအငွေ့စုပ်ယူမှု (LPCVD) လုပ်ငန်းစဉ်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော quartz Pedestal ၏ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် အလင်းကွယ်နိုင်မှုစွမ်းရည်သည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏ တစ်ပြေးညီ အစစ်ခံမှုအတွက် အာမခံချက်ပေးစွမ်းနိုင်ပြီး စက်ပစ္စည်း၏စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် အထွက်နှုန်းကို တိုးတက်စေသည်။

ထို့အပြင်၊ diffusion wafer လုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ Fused Quartz Pedestal ၏မြင့်မားသောအပူချိန်ခံနိုင်ရည်နှင့် chemical corrosion resistance သည် semiconductor material doping လုပ်ငန်းစဉ်၏ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် ညီညွတ်မှုကိုသေချာစေသည်။ ဤသော့ချက်လုပ်ငန်းစဉ်များသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများ၏ လျှပ်စစ်စွမ်းဆောင်ရည်ကို ဆုံးဖြတ်ကြပြီး အရည်အသွေးမြင့် Fused Quartz ပစ္စည်းများသည် အဆိုပါလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ အကောင်းဆုံးရလဒ်များရရှိရန် မရှိမဖြစ်အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal ဆိုင်များ