Tantalum carbide အပေါ်ယံပိုင်းပံ့ပိုးမှု

Vetek ဆီမီးကွန်ဒတ်တင်သူ၏အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်Tantalum carbide (tac) အပေါ်ယံပံ့ပိုးမှုသည်တိုးတက်စေရန်ဖြစ်သည်အပူခုခံခြင်း, ခုခံနှင့် crossionion ခုခံမှုကိုဝတ်ဆင်လုပ်ငန်းစဉ်၏တိကျမှန်ကန်မှုနှင့်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုတိုးတက်စေရန်နှင့်အစိတ်အပိုင်းများ၏ 0 န်ဆောင်မှုသက်တမ်းကိုတိုးချဲ့ရန်နှင့်အစိတ်အပိုင်းများကိုတိုးချဲ့ရန်အတွက် Tantalum carbide အပေါ်ယံပိုင်းကိုဖုံးအုပ်ထားသည့်အလွှာ၏အလွှာ၏။ ၎င်းသည်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောဖုံးအုပ်ထားသောထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။

Vetek Semiconductor ၏ Tantalum carbide အပေါ်ယံလွှာတွင် Mohs Hardness တွင် Mohs Hardness တွင်စိန်နှင့်သာဒုတိယအကြိမ်ဖြစ်သည်။ ၎င်းတွင်အလွန်အားကောင်းသော 0 တ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်ရှိပြီးပြုပြင်ထုတ်လုပ်မှုကာလအတွင်းမျက်နှာပြင် 0 တ်မှုနှင့်သက်ရောက်မှုများကိုထိရောက်စွာခုခံတွန်းလှန်နိုင်ပြီးပစ္စည်းကိရိယာအစိတ်အပိုင်းများ 0 န်ဆောင်မှုသက်တမ်းကိုတိုးချဲ့ရန်။ ၎င်း၏မြင့်မားသောအရည်ပျော်မှတ် 3880 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်ခန့်၏မြင့်မားသောအရည်ပျော်မှတ်ဖြင့်ပေါင်းစပ်ထားသော Semiconductor ပစ္စည်းကိရိယာများနှင့်အပူချိန်ခုခံမှုကိုမြှင့်တင်ရန် Semiconductor ပစ္စည်းများ,

Tantalum Carbide ၏မြင့်မားသောအရည်ပျော်သောအချက်မှာ 3880 ° C အကြောင်း 3880 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်, ထိုကဲ့သို့သောကဲ့သို့သော Semiconductor အပြောင်းအလဲနဲ့လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ဓာတုအငွေ့ (CVD)နှင့်ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ (PVD)TAC သည်အပူချိန်မြင့်မားခြင်းနှင့်ဓာတုဓာတ်အားပေးမှုခံနိုင်ရည်ရှိမှုနှင့်ဓာတုဓာတ်အားပေးမှုခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းနှင့်ဓာတ်ငွေ့အစိတ်အပိုင်းများကိုထိထိရောက်ရောက်ကာကွယ်နိုင်သည်။ Vetek SemiconDuctor ၏ Tantalum carbide carbide အပေါ်ယံပိုင်းတွင် Vetek Semalum Carbide Carbide Conning Support ကိုမကြာခဏအသုံးပြုကြောင်းဤအင်္ဂါရပ်ကိုလည်းဆုံးဖြတ်သည်။

Tantalum carbide အပေါ်ယံလွှာပံ့ပိုးမှုသည်အမှုန်ညစ်ညမ်းမှုကိုလျှော့ချခြင်း၏လုပ်ဆောင်မှုလည်းရှိသည်။ Wafer processing စဉ်အတွင်း Surface Wear သည်များသောအားဖြင့်အမှုန်များညစ်ညမ်းမှုကိုထုတ်လုပ်လေ့ရှိပြီး၎င်းသည် wafer ၏ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးကိုသက်ရောက်စေသည်။ 9-10 MoHs Hardness TAC အပေါ်ယံလွှာ၏အစွန်းရောက်ထုတ်ကုန်လက္ခဏာများသည်ဤ 0 တ်စုံကိုထိထိရောက်ရောက်လျှော့ချနိုင်သည်။ TAC အပေါ်ယံပိုင်း၏အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူချိန် (21 နှစ်ခန့်) သည်အပူချိန်အခြေအနေများတွင်ကောင်းမွန်သောအပူချိန်အခြေအနေများအောက်တွင်ကောင်းမွန်သောအပူချိန်အခြေအနေများတွင်ထိန်းသိမ်းထားနိုင်ပြီး,

Vetek Semiconducte ၏အဓိက TAC နှင့်အဖုံးများတွင်ပါဝင်သည်TAC အပေါ်ယံပိုင်းအပူပေးစက်, CVD TAC coac ကိုအပေါ်ယံပိုင်း, TAC Coating Rotation Suxceptorနှင့်tac အပေါ်ယံပိုင်းအပိုအစိတ်အပိုင်းစသည်တို့ကိုစသည်တို့နှင့်စိတ်ကြိုက်ထုတ်ကုန်ဝန်ဆောင်မှုများကိုထောက်ပံ့သည်။ Vetek Semiconductor သည် Semiconductor Industry အတွက်အလွန်ကောင်းမွန်သောထုတ်ကုန်များနှင့်နည်းပညာဆိုင်ရာဖြေရှင်းနည်းများကိုထောက်ပံ့ရန်ကတိကဝတ်ပြုထားသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည်သင်၏တရုတ်နိုင်ငံတွင်ရေရှည်မိတ်ဖက်ဖြစ်ရန်စိတ်ရင်းမှန်ဖြင့်မျှော်လင့်ပါသည်။

MicroCopic Cross-section တွင် UNEANTALUS CARBIDE (TAC):

CVD TAC Coating ၏အခြေခံရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ：