VETEK သည် Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်၏ ထိပ်တန်းထုတ်သည့် အခမ်းအနားအား ဂုဏ်ပြုသည်။

Next Generation Semiconductor Industry အတွက် အဆင့်မြင့် SiC၊ TaC နှင့် PyC Coating စွမ်းရည်များကို ချဲ့ထွင်ခြင်း။

2025 ခုနှစ်တွင် VETEK သည် ၎င်း၏တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်၏ ထိပ်တန်းအဆင့်မြှင့်တင်ခြင်းအခမ်းအနားအား တရားဝင်ကျင်းပခဲ့ပြီး ကုမ္ပဏီ၏အဆင့်မြင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် အကာအရံနည်းပညာများအတွက် ကုမ္ပဏီ၏ချဲ့ထွင်မှုဗျူဟာအတွက် အဓိကမှတ်တိုင်တစ်ခုအဖြစ် အသိအမှတ်ပြုခဲ့သည်။

အစိုးရကိုယ်စားလှယ်များ၊ မဟာဗျူဟာမိတ်ဖက်များ၊ ဆောက်လုပ်ရေးအဖွဲ့များနှင့် VETEK ဝန်ထမ်းများသည် ဤအရေးကြီးသောအခိုက်အတန့်ကို သက်သေအဖြစ် အတူတကွစုရုံးကာ စက်ရုံအသစ်၏ လျင်မြန်သောတိုးတက်မှုကို ဂုဏ်ပြုကြသည်။

ကွန်ကရစ်၏နောက်ဆုံးအပိုင်းကို သွန်းလောင်းလိုက်သည်နှင့်အမျှ လက်ခုပ်သြဘာနှင့် ဂုဏ်ပြုအလေးပြုခြင်းများကြားတွင် အခမ်းအနားသည် အထွတ်အထိပ်သို့ရောက်ရှိခဲ့သည် — ဆောက်လုပ်ရေးအဆင့်တစ်ခုပြီးစီးရုံသာမက VETEK ၏အနာဂတ်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအတွက် စာမျက်နှာသစ်တစ်ခု၏အစကို ကိုယ်စားပြုသည်။

Semiconductor ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်ကို အရှိန်မြှင့်ခြင်း။

ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း လုပ်ငန်းစဉ်ဆိုင်ရာ ပစ္စည်းများနှင့် အပူချိန်မြင့်မားသော အပေါ်ယံပိုင်းဖြေရှင်းချက်များအတွက် တစ်ကမ္ဘာလုံးဝယ်လိုအား လျင်မြန်စွာကြီးထွားလာနေသည့် ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ လိုအပ်ချက်ကို တုံ့ပြန်ရန်အတွက် VETEK အတွက် အဓိက မဟာဗျူဟာစီမံကိန်းတစ်ခုဖြစ်သည်။

အဆိုပါစက်ရုံသည် VETEK ၏ထုတ်လုပ်မှုနှင့် အင်ဂျင်နီယာစွမ်းရည်များကို သိသာထင်ရှားစွာ မြှင့်တင်ပေးလိမ့်မည်-

• CVD Silicon Carbide (SiC) Coating

• CVD Tantalum Carbide (TaC) Coating

• Pyrolytic Carbon (PyC) အပေါ်ယံပိုင်း

• Solid Silicon Carbide (Solid SiC)

• High Purity Graphite အစိတ်အပိုင်းများ

• Semiconductor အပူပိုင်းအကွက် ပစ္စည်းများ

• တိကျသောစက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော Semiconductor အစိတ်အပိုင်းများ

အပြည့်အဝလည်ပတ်ပြီးသည်နှင့်၊ အခြေစိုက်စခန်းအသစ်သည် VETEK ၏ ပေါင်းစပ်ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်များ အကျုံးဝင်သည်-

• Graphite သန့်စင်ခြင်း။

• တိကျသော CNC စက်ကိရိယာ

• အဆင့်မြင့် CVD အပေါ်ယံပိုင်း

• Semiconductor အဆင့် သန့်ရှင်းရေး

• အရည်အသွေးစစ်ဆေးခြင်းနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုစမ်းသပ်ခြင်း။

• အပူစက်ကွင်းဒီဇိုင်းနှင့် ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်ခြင်း။

အဓိက Semiconductor လုပ်ငန်းစဉ်များကို ပံ့ပိုးပေးခြင်း

VETEK ၏ထုတ်ကုန်များကို အရေးပါသော semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်၊၊

• SiC epitaxy

• ဆီလီကွန် epitaxy

• MOCVD လုပ်ငန်းစဉ်များ

• အရည်ကြည်ကြီးထွားမှုစနစ်များ

• RTP နှင့် etching applications များ

• ပျံ့နှံ့ခြင်းနှင့် ဓာတ်တိုးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များ

ကုမ္ပဏီသည် အဓိကစက်မှုလုပ်ငန်းပလက်ဖောင်းများနှင့် တွဲဖက်အသုံးပြုနိုင်သော စိတ်ကြိုက် semiconductor အစိတ်အပိုင်းများကို ပံ့ပိုးပေးသည်-

• Aixtron

• Veeco

• AMEC

• LPE

• ASM

• အသုံးချပစ္စည်းများ (AMAT)

• Newflare

တတိယမျိုးဆက် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၊ EV ဓာတ်အားပေးစက်များ၊ AI အခြေခံအဆောက်အအုံနှင့် အဆင့်မြင့် စွမ်းအင်အသုံးချမှုများ အရှိန်အဟုန်ဖြင့် ကြီးထွားလာသည်နှင့်အမျှ၊ မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရှိသော အပေါ်ယံပစ္စည်းများနှင့် အပူစက်ကွင်းအစိတ်အပိုင်းများအတွက် လိုအပ်ချက်သည် ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်းတွင် တိုးလာလျက်ရှိသည်။

Advanced Coating Technologies ကိုအာရုံစိုက်ပါ။

VETEK သည် အလွန်အမင်း semiconductor ထုတ်လုပ်မှုပတ်ဝန်းကျင်အတွက် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော မျိုးဆက်သစ်အပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာများတွင် ကြီးကြီးမားမားရင်းနှီးမြှုပ်နှံနေပါသည်။

CVD SiC Coating

VETEK ၏ CVD SiC coated graphite ထုတ်ကုန်များ ကမ်းလှမ်းချက်-

• အထူးကောင်းမွန်သော အပူတည်ငြိမ်မှု

• လွန်ကဲသော ဓာတုခုခံမှု

• အမှုန်အမွှားညစ်ညမ်းခြင်း။

• မြင့်မားသောသန့်စင်မှုစွမ်းဆောင်ရည်

• ကြမ်းတမ်းသောလုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများအောက်တွင် တာရှည်ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်း

ဤထုတ်ကုန်များကို တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုကြသည်-

• Epitaxy susceptors

• Wafer သယ်ဆောင်သူများ

• Barrel suceptors

• Halfmoon အပိုင်း

• SiC/GaN epitaxy အတွက် လုပ်ငန်းစဉ် အစိတ်အပိုင်းများ

အပူချိန် အလွန်မြင့်မားသော အက်ပ်များအတွက် TaC coating

ကုမ္ပဏီ၏ အဓိက ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုလမ်းညွှန်ချက်တစ်ခုအနေဖြင့် VETEK ၏ TaC အပေါ်ယံပိုင်းနည်းပညာကို 2000°C ထက်ကျော်လွန်သော အလွန်မြင့်မားသောအပူချိန်ရှိသော ပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမှုပတ်ဝန်းကျင်အတွက် အင်ဂျင်နီယာချုပ်လုပ်ထားပါသည်။

သမားရိုးကျ SiC coatings များနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက TaC အပေါ်ယံမှ ပံ့ပိုးပေးသည်-

• ပိုမိုမြင့်မားသောအပူတည်ငြိမ်မှု

• ပိုမိုကောင်းမွန်သော သံချေးတက်ခြင်း စွမ်းဆောင်ရည်

• ဂရပ်ဖိုက်ညစ်ညမ်းမှုကို သာလွန်စွာခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

• ပိုမိုကောင်းမွန်သော ကြည်လင်ကြီးထွားမှု ပတ်ဝန်းကျင် တည်ငြိမ်မှု

TaC coating ထုတ်ကုန်များသည် အောက်ပါတို့၌ ပို၍အရေးကြီးပါသည်။

• SiC တစ်ခုတည်း ကြည်လင်ကြီးထွားခြင်း။

• PVT စနစ်များ

• အဆင့်မြင့် semiconductor အပူအကွက်များ

Pyrolytic Carbon (PyC) အပေါ်ယံပိုင်း

VETEK သည် အလွန်သိပ်သည်းဆမြင့်မားသော PyC အပေါ်ယံပိုင်းဖြေရှင်းချက်များကို ပံ့ပိုးပေးသည်-

• ချွေးပေါက်များ ကင်းစင်သော မျက်နှာပြင်များ

• အထူးကောင်းမွန်သော အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

• မြင့်မားသော ဖုန်စုပ်စက်

• အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုစွမ်းဆောင်ရည်

PyC coatings များကို တွင်တွင်ကျယ်ကျယ် အသုံးပြုကြသည်-

• Semiconductor အပူဖြင့်လုပ်ဆောင်ခြင်း။

• အရည်ကြည်ဖုများ၊

• အပူချိန်မြင့်သော လေဟာနယ်စနစ်များ

Semiconductor Materials များ၏အနာဂတ်ကိုတည်ဆောက်ခြင်း။

အခမ်းအနားတွင် စီမံကိန်းတည်ဆောက်ရေးအဖွဲ့သည် အဆောက်အအုံကို ချောမွေ့စွာပို့ဆောင်နိုင်စေရန် အမြင့်မားဆုံးသော အင်ဂျင်နီယာနှင့် အရည်အသွေးစံချိန်စံညွှန်းများကို ထိန်းသိမ်းထားရှိရန် ကတိကဝတ်ပြုကြောင်း အလေးပေးပြောကြားခဲ့သည်။

ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်သည် အဆင့်မြင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းပစ္စည်းစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် "VETEK Speed" ကို ကိုယ်စားပြုသည် - နည်းပညာဆန်းသစ်တီထွင်မှုနှင့် ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာထောက်ပံ့မှုစွမ်းရည်များကို အရှိန်မြှင့်ရန် ကုမ္ပဏီ၏သန္နိဋ္ဌာန်ကို ပြသသည်။

ရှေ့ကိုမျှော်ကြည့်ရင်း၊ VETEK သည် အောက်ပါတို့ကို ဆက်လက်အာရုံစိုက်ပါမည်-

• အဆင့်မြင့် semiconductor coating နည်းပညာများ

• သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ပစ္စည်းကို ဆန်းသစ်တီထွင်ခြင်း။

• အပူစက်ကွင်းအင်ဂျင်နီယာ

• ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ဒေသပြောင်းခြင်းနှင့် ထောက်ပံ့ရေးကွင်းဆက် ယုံကြည်စိတ်ချရမှု

ကုမ္ပဏီသည် စဉ်ဆက်မပြတ် နည်းပညာဆိုင်ရာ ဆန်းသစ်တီထွင်မှုနှင့် အရည်အသွေးမြင့် ထုတ်လုပ်မှုမှတစ်ဆင့် ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်း တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးစက်လုပ်ငန်း ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးကို ပံ့ပိုးကူညီရန် ကတိပြုထားသည်။

မှတ်တိုင်အသစ်၊ ခရီးစဉ်အသစ်

ထိပ်တန်းဆုပေးသည့် အခမ်းအနားသည် VETEK အတွက် အစပျိုးမှုအသစ်ကို အမှတ်အသားပြုပါသည်။

ထိပ်တန်းအဆင့်မြင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ပစ္စည်းများ ပေးသွင်းသူဖြစ်လာရန် မျှော်မှန်းချက်ကို ဆောင်ထားခြင်းဖြင့် ထုတ်လုပ်မှုအခြေခံအသစ်သည် VETEK ၏ အနာဂတ်တိုးတက်မှုကို ပိုမိုအားကောင်းစေပြီး ကမ္ဘာ့တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းဈေးကွက်တွင် ၎င်း၏ရပ်တည်ချက်ကို အားကောင်းစေမည်ဖြစ်သည်။

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းသည် ပိုမိုမြင့်မားသောအပူချိန်၊ ပိုကြီးသော wafer အရွယ်အစားနှင့် ပိုမိုတင်းကျပ်သော သန့်စင်မှုလိုအပ်ချက်များဆီသို့ ဆက်လက်တိုးတက်နေသဖြင့် VETEK သည် ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်းရှိ သုံးစွဲသူများနှင့်အတူ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့် မျိုးဆက်သစ်သို့ ရှေ့ဆက်သွားရန် အဆင်သင့်ဖြစ်နေပါပြီ။