Tantalum carbide ကို coated ဂြိုဟ်လှည့်ကွက်

အရည်အသွေးမြင့် Tantalum carbide capided ပါ 0 င်သည့်ပတ် 0 န်းကျင်အလှည့်ကိုတရုတ်ထုတ်လုပ်သူ Vetek Sememannuctor မှကမ်းလှမ်းသည်။ ဝယ်ခြမ်းTantalum carbide coatedအနိမ့်စျေးနှုန်းနှင့်အတူတိုက်ရိုက်အရည်အသွေးမြင့်မားသောဂြိုလ်အလှည့် disk ကို။

Tantalum carbide capated Plantary Rotation Disk သည် Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်ထိရောက်မှုနှင့်အရည်အသွေးကိုမြှင့်တင်ရန်ရည်ရွယ်သည့် Aixtron G10 MocvD စနစ်အတွက်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသောဆက်စပ်ပစ္စည်းဖြစ်သည်။ အရည်အသွေးမြင့်မားသောပစ္စည်းများမှထုတ်လုပ်ပြီးထုတ်လုပ်သည့်အပြင်ထုတ်လုပ်သော Tantalum carbide capated planetary rootation disk သည်ထူးချွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့်သက်ဆိုင်သည်သတ္တု - အော်ဂဲနစ်ဓာတုအခိုးအငွေ့အစုံ (MOCVD) လုပ်ငန်းစဉ်များ.

အဆိုပါဂြိုဟ် disk ကိုနှင့်အတူ coated substrate ကိုသုံးပြီးတည်ဆောက်ထားပါသည်CVD TACအထူးကောင်းမွန်သော အပူတည်ငြိမ်မှု၊ မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် မြင့်မားသောအပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှုတို့ကို ပေးစွမ်းသည်။

မတူညီသော semiconductor wafer အရွယ်အစားများကို လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေရန် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သော Planetary Disk သည် ထုတ်လုပ်မှုလိုအပ်ချက်အမျိုးမျိုးအတွက် သင့်လျော်သည်။ ၎င်း၏ခိုင်ခံ့သောတည်ဆောက်မှုသည် MOCVD စနစ်၏တောင်းဆိုနေသောလည်ပတ်မှုအခြေအနေများကိုခံနိုင်ရည်ရှိစေရန်အတွက်၊ တာရှည်ခံစွမ်းဆောင်ရည်ကိုသေချာစေရန်နှင့် wafer carriers များနှင့် susceptors များနှင့်ဆက်စပ်သော wafer carriers များနှင့် susceptors များနှင့်ဆက်စပ်သော ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုစရိတ်စကများကိုလျှော့ချရန်နှင့် အချိန်ကုန်သက်သာစေရန် အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။

Planetary Disk ဖြင့်၊AIXTRON G10 MOCVD စနစ်ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် ပိုမိုထိရောက်မှုနှင့် သာလွန်ကောင်းမွန်သောရလဒ်များကို ရရှိနိုင်သည်။ ၎င်း၏ထူးခြားသောအပူတည်ငြိမ်မှု၊ မတူညီသော wafer အရွယ်အစားများနှင့် လိုက်ဖက်ညီမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရသောစွမ်းဆောင်ရည်တို့က ၎င်းသည် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းဆောင်ရည်ကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်နှင့် စိန်ခေါ်မှု MOCVD ပတ်ဝန်းကျင်တွင် ထူးထူးခြားခြားရလဒ်များရရှိရန် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။