CVD TAC coac ကိုအပေါ်ယံပိုင်း

TAC Coating Rotation Suroptor သည် CVD နှင့် MBE ကဲ့သို့သောအပူချိန်စုပ်ယူမှုဖြစ်စဉ်များတွင်အဓိကအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ သူတို့ထဲတွင်,TAC Coatingအလွန်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသောခုခံခြင်း, ချေးခုခံခြင်းနှင့်ဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့် 0 န်ဆောင်မှုပေးစဉ်အတွင်းမြင့်မားသောတိကျမှုနှင့်အရည်အသွေးမြင့်မားစေရန်သေချာသည်။

CVD TAC ဖုံးထားသည့် Crucible Crucible များသောအားဖြင့် tac အပေါ်ယံပိုင်းနှင့်ပါဝင်သည်ခွက်အလွှာ။ ၎င်းတို့အနက် TAC သည် 3880 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိအရည်ပျော်မှတ်ဖြင့်အရည်ပျော်မှတ်ကြွေထည်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည်အလွန်မြင့်မားသောခဲယဉ်းသည် (Vickers Hardness အထိ Hardness အထိ Hardness), ဓာတုချေးခြင်းကိုခံနိုင်ရည်နှင့်ခိုင်မာသောအောက်စီဂျင်ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ထို့ကြောင့် TAC Coating သည် Semiconductor processing technology တွင်အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူချိန်ဒဏ်ခံနိုင်သောပစ္စည်းများဖြစ်သည်။

Graphite အလွှာသည်ကောင်းမွန်သောအပူစီးစီးဆင်းမှုကောင်းမွန်သည် (အပူစီးကူးခြင်းသည် 21 ရက်, ဤဝိသေသလက်ခဏာသည်ဖိုက်သည်စံပြအကျပ်အတည်းဖြစ်လာသည်ကိုဆုံးဖြတ်သည်အလွှာ.

CVD TAC ဖုံးထားသည့် CRUCEENT CRUCEENT သည်အဓိကအားဖြင့်အောက်ပါ semiconductor processing technologies များတွင်အဓိကအားဖြင့်အသုံးပြုသည်:

wafer ကုန်ထုတ်လုပ်မှု: Vetek Semiconductor CVD TAC TAC CBIENTE CRUCESTER သည်အပူချိန်ခုခံနိုင်မှု (3880 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိ) နှင့်ချေးယူမှုမြင့်မားသောခုခံမှု (CVD) နှင့် cvd suptosition (CVD) နှင့် cvd ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်မကြာခဏအသုံးပြုသည်။ Product ၏အလွန်ကောင်းမွန်သောဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာတည်ငြိမ်မှုနှင့်ပေါင်းစပ်ပြီး Ultra-High အပူချိန်ပတ် 0 န်းကျင်ရှိအဆင့်မြင့်မားခြင်းနှင့်အတူပစ္စည်းကိရိယာများသည်အလွန်အမင်းကြမ်းတမ်းသောအခြေအနေများအောက်တွင်ကြာမြင့်စွာလည်ပတ်နိုင်ပြီး၎င်းတို့သည်များသောအားဖြင့်အလွန်အမင်းကြမ်းတမ်းသောအခြေအနေများအောက်တွင်ကြာမြင့်စွာလည်ပတ်နိုင်ကြောင်းသေချာစေသည်။

epitaxial တိုးတက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်: ထိုကဲ့သို့သောအဖြစ် epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ဓာတုအငွေ့ (CVD)နှင့်မော်လီကျူးရောင်ခြည် epitaxaxy (MBE), CVD TAC ဖုံးအုပ်ထားသော CRUCES CRUCEST သည်အဓိကအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ ၎င်း၏ TAC Coating သည်အပူချိန်အလွန်အမင်းအပူချိန်နှင့်တည့်တည့် 0 န်းကျင်ရှိပစ္စည်းများ၏သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုများကိုထိန်းသိမ်းထားနိုင်သော်လည်းဓာတ်ပေါင်းဖို၏ပစ္စည်းနှင့်ဓာတ်အားပေးစက်ရုံများ၌ဓာတ်ပေါင်းဖိုများညစ်ညမ်းမှုကိုထိရောက်စွာတားဆီးနိုင်သည်။

တရုတ်နိုင်ငံ၏ ဦး ဆောင် CVD TAC ကိုဖုံးအုပ်ထားသည့်အနေဖြင့် Vetek Semiconductor သည်သင်၏ပစ္စည်းကိရိယာများနှင့်လုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းပေးသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည်သင်၏တရုတ်နိုင်ငံတွင်ရေရှည်မိတ်ဖက်ဖြစ်ရန်စိတ်ရင်းမှန်ဖြင့်မျှော်လင့်ပါသည်။

MicroCopic Cross-section တွင် UNEANTALUS CARBIDE (TAC)：

TAC Coating ၏ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ：

က semiconductor CVD TAC ဖုံးအုပ်ထားသော croucible ဆိုင်များ -