SIC ရေချိုးခန်းခေါင်း

Vetek Semiconductor သည် Sicemductor Industry သို့ ဦး ခေါင်းကိုအဆင့်မြင့်သော SIC SIC ရေယာဉ်ရေကိုပေးသည်။ Silicon Carbide ပစ္စည်းများသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူရှိပြီးလျှပ်စစ်ပစ္စည်းများနှင့်ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများကိုပေါင်းစပ်ထားပြီးစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောပစ္စည်းများလိုအပ်သည့် Semiconductor Independings တွင်အသုံးချပရိုဂရမ်များပြုလုပ်နိုင်သည်။ Vetek Semiconductor သည် CVD Soli Sic နည်းပညာတွင်အတွေ့အကြုံများစွာရှိသည်။ Vetek Semiconductor ၏တော်လှန်ရေးနည်းပညာသည်ဓာတုအခိုးအငွေ့စုပ်ယူမှု၏လုပ်ငန်းစဉ်မှတစ်ဆင့်ဖန်တီးသော sictra မြင့်သော silicon carbide ပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုကိုပြုလုပ်နိုင်သည်။

SIC ရေအရင်းအမြစ်ခေါင်းသည် Sememicuctor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်အရေးပါသောအစိတ်အပိုင်းဖြစ်သည်, MOCVD စနစ်များအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသော Silicon Estagalaxy နှင့်ှုဆေးEstitaxy ဖြစ်စဉ်များ။ ကြံ့ခိုင်ကနေဖန်ဆင်းတော်မူ၏အစိုင်အခဲ silicon carbide (SIC)ဤအစိတ်အပိုင်းသည် Plasma processing နှင့်အပူချိန်မြင့်မားသောအသုံးချပရိုဂရမ်များ၏အလွန်အမင်းအခြေအနေများကိုခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

ဆီလီကွန်ကာလက် (SIC)၎င်း၏မြင့်မားသောအပူစီးကူးခြင်း, ဓာတုဓာတ်အားပေးစက်ရုံခုခံခြင်းနှင့်ခြွင်းချက်စက်မှုခွန်အားကြောင့်လူအများ SIC ရေချိုးခန်းခေါင်းကဲ့သို့သောစံပြပစ္စည်းများအတွက်စံပြပစ္စည်းများထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက်လူသိများသည်။ သဘာဝဓာတ်ငွေ့ရေချိုးခန်း ဦး ခေါင်းသည်အရည်အသွေးမြင့်သော epitaxial အလွှာများကိုထုတ်လုပ်ရန်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောကစားသမားမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိလုပ်ငန်းစဉ်ဓာတ်ငွေ့များဖြန့်ဝေခြင်းကိုပင်ဖြန့်ဝေသည်။ CVD-SIC မှပြုလုပ်သော CVD-SIC မှပြုလုပ်လေ့ရှိသော CVD-SIC မှပြုလုပ်လေ့ရှိပြီး,

၎င်း၏တိကျသောဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုထိန်းချုပ်မှုနှင့်ထူးချွန်သောပစ္စည်းဂုဏ်သတ္တိများနှင့်အတူ Sic Property Properties သည်ခေတ်မီ Sememiconductor ပြုပြင်ထုတ်လုပ်မှုတွင်အဓိကအစိတ်အပိုင်းဖြစ်သည်။

Vetek Semiconductor သည်ကူးစက်မှုနိမ့်ကျသည့် silicon carbide semiconductor semiconductor ရေချိုးခန်း ဦး ခေါင်း ကျွန်ုပ်တို့သည်စိတ်ကြိုက်အင်ဂျင်နီယာနှင့်ထောက်ပံ့ရေးစွမ်းရည်ရှိသည်အဆင့်မြင့်ကြွေထည်ပစ္စည်းများထူးခြားသောစွမ်းရည်အမျိုးမျိုးကိုအသုံးပြု။