အစိုင်အခဲ SIC ဓာတ်ငွေ့ရေချိုးခန်းခေါင်း

အစိုင်အခဲ SIC ဓာတ်ငွေ့ရေချိုးခန်းခေါင်း

Vetek Semiconductor သည်သုတေသန, Vetek Semiconductor သည် Semiconductor Eargaxy နှင့်အခြားလုပ်ငန်းစဉ်နှင့်သက်ဆိုင်သည့်ထုတ်ကုန်များအပေါ်လုပ်ကိုင်နေသဖြင့်အထူးသဖြင့် CVD CIC နှင့် CIC CICATE နှင့် CVD TAC COUNE နှင့် CVD COUNES SIC တို့သည်ကျွန်ုပ်တို့၏အထင်ကရထုတ်ကုန်များဖြစ်သည်။

VeTek Semiconductor Solid SiC Gas Shower Head ကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ CVD လုပ်ငန်းစဉ်များအတွင်း မြေအောက်မျက်နှာပြင်ပေါ်သို့ ရှေ့ပြေးဓာတ်ငွေ့များကို အညီအမျှ ဖြန့်ဝေရန်အတွက် အများအားဖြင့် အသုံးပြုကြသည်။ ရေချိုးခေါင်းများအတွက် CVD-SiC ပစ္စည်းကိုအသုံးပြုခြင်းသည် အကျိုးကျေးဇူးများစွာကို ပေးဆောင်သည်။ ၎င်း၏မြင့်မားသောအပူစီးကူးနိုင်စွမ်းသည် CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင်ထုတ်ပေးသောအပူများကိုသွေ့ခြောက်စေပြီးအလွှာပေါ်တွင်တူညီသောအပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုကိုသေချာစေသည်။ ထို့အပြင် CVD sic ရေချိုးခေါင်း၏ ဓာတုတည်ငြိမ်မှုသည် CVD လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အဖြစ်များလေ့ရှိသည့် အဆိပ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့် ကြမ်းတမ်းသောပတ်ဝန်းကျင်များကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေပါသည်။ 

CVD SiC ရေပန်းခေါင်းများ၏ ဒီဇိုင်းသည် တိကျသော CVD စနစ်များနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များနှင့် အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေနိုင်သည်။ သို့သော်၊ ၎င်းတို့တွင် တိကျစွာ တူးဖော်ထားသော အပေါက်များ သို့မဟုတ် အပေါက်များ ဆက်တိုက်ပါရှိသော ပန်းကန်ပြား သို့မဟုတ် ဒစ်ပုံသဏ္ဍာန် အစိတ်အပိုင်းတစ်ခု ပါရှိသည်။ အပေါက်ပုံစံနှင့် ဂျီသြမေတြီကို တူညီသောဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှုနှင့် အောက်ခြေမြေအောက်မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အမြန်နှုန်းသေချာစေရန် ဂရုတစိုက်ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။

Solid SiC ၏ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဂုဏ်သတ္တိများ