Semiconductor ကြွေထည် Nozzle

semiconductor ceramic nozzle nozzle သည်အရေးကြီးသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်HDP-CVD လုပ်ငန်းစဉ်ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုကို တိကျစွာထိန်းချုပ်ရန်နှင့် သေချာစေရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။အရည်အသွေးမြင့်ရုပ်ရှင်အစစ်ခံ. Ceramic nozzle spray သည် တသမတ်တည်း နှင့် ထိန်းချုပ်နိုင်သော ဓာတ်ငွေ့များ စီးဆင်းမှုနှုန်းကို သေချာစေရန် တိကျစွာ အင်ဂျင်နီယာချုပ်ထားပြီး၊ ဓာတ်ငွေ့များ တုံ့ပြန်မှုခန်းထဲသို့ ဝင်လာသောအခါ ဖြစ်နိုင်ခြေရှိသော တုန်လှုပ်မှု အနည်းဆုံးဖြစ်အောင် လျှော့ချပေးသည်။

နည်းပညာဆိုင်ရာသတ်မှတ်ချက်များ:

1.Material Composition:

Vetek Semiconductor Ceramic Sand Spasting Sand Spasting Novee သည်ပုံမှန်အားဖြင့်အလူမီနီယမ်အောက်ဆိုဒ် (Al2O3) ကဲ့သို့သော Semiconductor ကြွေထည်များဖြင့်ပြုလုပ်သည်။ဆီလီကွန်ကာလက် (SIC)သို့မဟုတ်ဇာတွန်နစ်ရေ Oxide 'ZrO2)၊ ဤပစ္စည်းများသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဂုဏ်သတ္တိများရှိသည်။

    •မြင့်မားသောအပူတည်ငြိမ်မှု (1000 ပြည့်နှစ်အထက်အပူချိန်ကိုခံနိုင်ရည်ရှိသည်)

    • ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များဖြင့် ချေးခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း။CVD လုပ်ငန်းစဉ်များ(ဥပမာ ဆီလိန်း၊ အမိုးနီးယား)

    •စဉ်ဆက်မပြတ်ပလာစမာထိတွေ့မှုကိုခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

2. ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဒီဇိုင်း:

    • orificate အရွယ်အစား - Semiconductor ကြွေထည်၏ orzzle ၏ orzzle ၏ orzzle သည်ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုကိုတိကျသောထိန်းချုပ်မှုကိုသက်ရောက်စေသော,

    •ထောင့်များနှင့်ဂျီသွမေီ - အလွှာကိုဖြတ်ပြီးယူနီဖောင်းဓာတ်ငွေ့ခွဲဝေမှုကိုသေချာစေရန်တိကျစွာဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသော, အပ်နှံထားသည့်အလွှာတွင်ချို့ယွင်းချက်များ

Semiconductor Industry တွင် Semiconductor Ceramic Blast Nozzle တွင် HDP-CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင်အဓိကအခန်းကဏ် play မှပါ 0 င်သည်။ ၎င်းတို့သည် Microelectronics ထုတ်လုပ်မှုအတွက်ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကိုသိုလှောင်ထားရန်,

Vetek Semiconductor Ceramic Nozzle ဆိုင်များ -