စက်မှုသတင်း

Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်, ဓာတုစက်မှုစီမံကိန်း (CMP) သည်အရေးပါသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ CMP လုပ်ငန်းစဉ်သည်ဓာတုနှင့်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာလုပ်ရပ်များပေါင်းစပ်ပြီး silicon wafers များ၏မျက်နှာပြင်ကိုချောမွေ့စေရန်အတွက်, ဤလုပ်ငန်းစဉ်၏အဓိကအစိတ်အပိုင်းအဖြစ် CMP polishry slurry သည်သိသိသာသာသက်ရောက်မှုများ, မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးနှင့်ထုတ်ကုန်၏နောက်ဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်ကိုသိသိသာသာသက်ရောက်မှုရှိသည်

Wafer CMP Polish Slurry သည် Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အထူးရေးဆွဲထားသောအရည်ပစ္စည်းဖြစ်သည်။ ၎င်းတွင်ရေ, ဓာတုအရာများကိုဓာတုကိုင်ဆောင်သူများနှင့် surfactant များပါဝင်သည်

Silicon carbide ပရက်မာမှုများကိုပုံမှန်အားဖြင့် Quartz နှင့် Petroleum Coke ကိုအဓိကကုန်ကြမ်းပစ္စည်းများအဖြစ်ထုတ်လုပ်သည်။ ကြိုတင်ပြင်ဆင်ထားသည့်အဆင့်တွင်ဤပစ္စည်းများသည်ဓာတုဗေဒအရမီးဖိုချောင်တွင်အချိုးမ 0 င်မီလိုချင်သောအမှုန်အရွယ်အစားအောင်မြင်ရန်စက်မှုလုပ်ငန်းပြုပြင်ခြင်းကိုခံယူသည်။

လွန်ခဲ့သောနှစ်အနည်းငယ်အတွင်းထုပ်ပိုးနည်းပညာ၏ဗဟိုအဆင့်ကို "နည်းပညာဟောင်း" ကိုတဖြည်းဖြည်းနှင့် CMP (ဓာတုစက်မှု polishing) ကိုတဖြည်းဖြည်းဖြန့်ချိခဲ့သည်။ မျိုးဆက်သစ်အဆင့်မြင့်ထုပ်ပိုးမှု၏မျိုးဆက်သစ်နှောင်ကြိုး၏ ဦး ဆောင်သည့်အခါ CMP သည်မြင်ကွင်းများနောက်ကွယ်မှမီးမောင်းထိုးပြခြင်းသို့တဖြည်းဖြည်းရွေ့လျားနေသည်။

ထုတ်ကုန်များနှင့်မီးဖိုချောင်သုံးပစ္စည်းများရှိအမြဲတမ်းပြောင်းလဲနေသောကမ္ဘာတွင်ထုတ်ကုန်တစ်ခုသည်၎င်း၏ဆန်းသစ်တီထွင်မှုနှင့်လက်တွေ့ကျသော application-quartz thermos ပုံးများအတွက်သိသိသာသာအာရုံစူးစိုက်မှုရရှိခဲ့သည်

Quartz ထုတ်ကုန်များကို Suremductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြု. မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း,