နည်းပညာနှင့် ဖြေရှင်းချက်များ

ရွေးချယ်ရေးလမ်းညွှန်

01 Epitaxy နှင့် Etching လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် CVD SiC၊ TaC နှင့် Solid SiC တို့၏ စွမ်းဆောင်ရည်နယ်နိမိတ်များ
05

01 Epitaxy နှင့် Etching လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် CVD SiC၊ TaC နှင့် Solid SiC တို့၏ စွမ်းဆောင်ရည်နယ်နိမိတ်များ

မှန်ကန်သော CVD SiC၊ TaC အပေါ်ယံပိုင်း သို့မဟုတ် Solid SiC ကိုရွေးချယ်ခြင်းသည် epitaxy/etching လိုင်းများတွင် အမှုန်အဆင့်များနှင့် အစိတ်အပိုင်းများ၏သက်တမ်းကို တိုက်ရိုက်ဆုံးဖြတ်သည်။ ဤဆောင်းပါးသည် သင့်အား လျင်မြန်သောဆုံးဖြတ်ချက်များချနိုင်စေရန်နှင့် အန္တရာယ်ကိုလျှော့ချနိုင်စေရန်အတွက် အဓိကစက်ပစ္စည်းအစားထိုးဖြေရှင်းချက်များနှင့် အဓိကတိုင်းတာမှုများနှင့်ကိုက်ညီသော အပူချိန်၊ လေထုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အလိုက် ပြတ်သားသောရွေးချယ်မှုနယ်နိမိတ်များကို ဖော်ပြပေးထားပါသည်။
ပိုမိုကြည့်ရှုပါ။
သတင်းအကြံပြုချက်များ
X
သင့်အား ပိုမိုကောင်းမွန်သောကြည့်ရှုမှုအတွေ့အကြုံကို ပေးဆောင်ရန်၊ ဆိုက်အသွားအလာကို ပိုင်းခြားစိတ်ဖြာပြီး အကြောင်းအရာကို ပုဂ္ဂိုလ်ရေးသီးသန့်ပြုလုပ်ရန် ကျွန်ုပ်တို့သည် ကွတ်ကီးများကို အသုံးပြုပါသည်။ ဤဆိုက်ကိုအသုံးပြုခြင်းဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ cookies အသုံးပြုမှုကို သင်သဘောတူပါသည်။ ကိုယ်ရေးအချက်အလက်မူဝါဒ
ငြင်းပယ်ပါ။လက်ခံပါတယ်။