Tantalum carbide လမ်းညွှန်ကွင်း

က semiconductorTantalum carbide လမ်းညွှန် Ringကနေ crafted ဖြစ်ပါတယ်ခွက်နှင့်Tantalum carbide နှင့်အတူ coatedသာလွန်စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်အသက်ရှည်မှုကိုသေချာစေရန်နှစ် ဦး စလုံးပစ္စည်းများ၏အကောင်းဆုံးဂုဏ်သတ္တိများကိုမြှင့်တင်နိုင်သည့်ပေါင်းစပ်မှု။

အပေြာင်းTAC CoatingTantalum carbide လမ်းညွှန်ကွင်းတွင်ဟိုက်ဒရိုဂျင်, အာဂွန်နှင့်နိုက်ထရိုဂျင်စသည့်ဓာတ်ငွေ့များပါ 0 င်သော SIC Crystal Charge များ၏တုန့်ပြန်မှုခင်းများ၌ဓာတုဗေဒအရအင်ဂျင်နီယာများဖြစ်သည်။ ဤဓာတုပစ္စည်းသည်ကြီးထွားလာသောကျောက်သကာ၏ညစ်ညမ်းမှုကိုကာကွယ်ရန်အတွက်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောအနေဖြင့်နောက်ဆုံးပေါ် Sememonductor ထုတ်ကုန်များ၏စွမ်းဆောင်ရည်ကိုလျှော့ချနိုင်သည့်မည်သည့်ညစ်ညမ်းမှုကိုမဆိုတားဆီးရန်အရေးကြီးသည်။ ထို့အပြင် TAC အပေါ်ယံပိုင်းမှပေးသောအပူတည်ငြိမ်မှုသည် Tantalum carbide လမ်းညွှန်ကွင်းဆက်အတွက်လိုအပ်သောမြင့်မားသောအပူချိန်တွင်ထိထိရောက်ရောက်လည်ပတ်စေနိုင်သည်SIC Crystal ကြီးထွားမှုပုံမှန်အားဖြင့် 2000 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်ထက်ကျော်လွန်။

ထို့အပြင် Tantalum carbide အပေါ်လက်စွပ်တွင်ဖိုက်ဒူးနှင့် TAC ပေါင်းစပ်မှုပေါင်းစပ်မှုသည်ကြည်လင်တိုးတက်မှုမီးဖိုအတွင်းရှိအပူစီမံခန့်ခွဲမှုကိုအကောင်းမြင်စေသည်။ ဖိုက်၏မြင့်မားသောအပူအရှိန်အဟုန်မြှင့်တင်ခြင်းသည်အပူကိုထိထိရောက်ရောက်ဖြန့်ဖြူးခြင်း, ဤအတောအတွင်း Tantalum carbide အပေါ်ယံပိုင်းသည်အပူချိန်မြင့်မားစွာထိတွေ့ခြင်းနှင့်ဓာတ်ပြုနိုင်သောဓာတ်ငွေ့များနှင့်တိုက်ရိုက်ထိတွေ့မှုမှကာကွယ်ရန်အတွက် Tantalum carbide အပေါ်ယံပိုင်းတွင်အပူအတားအဆီးတစ်ခုဖြစ်သည်။ အဓိကနှင့်ဖုံးအုပ်ထားသောပစ္စည်းများအကြားဤ synergy သည် SIC Crystal ကြီးထွားမှု၏ကြမ်းတမ်းသောအခြေအနေများကိုခံနိုင်ရည်မရှိခြင်းကိုသာမကလုပ်ငန်းစဉ်၏စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်အရည်အသွေးကိုလည်းပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။

Vetek Semiconductor Tantalum carbide ၏စက်မှုဂုဏ်သတ္တိများသည် Tantalum carbide အပေါ်လက်စွပ်ပေါ်တွင် 0 တ်ဆင်ခြင်းနှင့်မျက်ရည်များကိုအလွန်လျော့နည်းစေသည်။ ဤသည်၏ထပ်တလဲလဲသဘောသဘာဝကြောင့်အလွန်အရေးကြီးပါသည်Crystal ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်မကြာခဏအပူသံသရာများနှင့်စက်မှုဖိစီးမှုများမကြာခဏလမ်းညွှန်ကွင်းကိုဖော်ထုတ်။ Tantalum Carbide ၏အခမ်းအနားသည်၎င်း၏ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်မှုဆိုင်ရာစည်းမျဉ်းစည်းကမ်းများသည်၎င်း၏ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာသမာဓိရှိခြင်းနှင့်တိကျသောရှုထောင့်များကိုကြာရှည်စွာထိန်းသိမ်းထားနိုင်ကြောင်း,

Vetek Semiconductor Tantalum carbide atern လမ်းညွှန်ကွင်းသည် Semiconductor Industry တွင်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောအစိတ်အပိုင်းဖြစ်သည်, အထူးသဖြင့်ကြီးထွားမှုအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်ဆီလီကွန်ကာလက် crystals။ ၎င်း၏ဒီဇိုင်းသည်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသောစိတ်ဖိစီးမှုမြင့်မားသောပတ်ဝန်းကျင်တွင်ထူးခြားသောစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ကိုပေးရန်ဖိုက်နှင့်တာဆန်းကာဗိုက်၏အားသာချက်များကိုအသုံးပြုသည်။ TAC Coating သည်အရည်အသွေးမြင့် SIC Crystals များထုတ်လုပ်ရန်အတွက်အရေးပါသောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာတာ 0 န်ခံမှု, အလွန်အမင်းအခြေအနေများအောက်တွင်၎င်း၏သမာဓိစောင့်သိမှုနှင့်လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကိုထိန်းသိမ်းခြင်းအားဖြင့်စစ်အုပ်ချုပ်ရေးလက်စွပ်သည်မြင့်မားသောစွမ်းအင်နှင့်ကြိမ်နှုန်းမြင့်မားသော semiconductor device များတိုးတက်မှုကိုအထောက်အကူပြုသည်။

MicroCopic Cross-section တွင် UNEANTALUS CARBIDE (TAC):

TAC Coating ၏ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ: