Semiconductor Grade Quartz Bell Jar

Semiconductor Grade Quartz Bell Jar သည်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောလင်းလက်များဖြင့်ပြုလုပ်ထားသည်။ ၎င်းသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောတည်ငြိမ်သောတည်ငြိမ်မှုနှင့်ခိုင်မာသောချေးခြင်းခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ Semiconductor Industry တွင် Semiconductor Grade Quartz Bell Jar သည်ဓာတုအခိုးအငွေ့ (CVD) တွင်ပြောင်ပြောင်တင်းတင်းပြောင်ပြောင်တင်းတင်းလုပ်ဖော်ကိုင်ဖက်များအပေါ်ပါးလွှာသောပတ် 0 န်းကျင်ဆိုင်ရာပတ် 0 န်းကျင်ကိုထောက်ပံ့ပေးသည်။ Semiconductor Grade Quartz Bell Jar သည် optical countings များ, သတ္တုအဖုံးများနှင့်အခြားပါးလွှာသောရုပ်ရှင်အမျိုးအစားများထုတ်လုပ်ခြင်းကဲ့သို့သောလေဟာနယ်နည်းပညာလိုအပ်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်လည်းအသုံးပြုသည်။ Semiconductor Grade Quartz Bell Jar သည် Pharm နှင့်ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာသိပ္ပံစမ်းသပ်မှုများ၌သန့်ရှင်းသော,

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအသုံးပြုမှုအခြေအနေများ-

Polysilicon သည်ပေါင်းစပ်ထားသောဆားကစ်များ, ဓာတုအငွေ့အခိုးအငွေ့ (CVD) သည် Polycrystall Silicon ကိုပြင်ဆင်ရန်အဓိကနည်းလမ်းများအနက်မှတစ်ခုဖြစ်သည်။ အခြေခံနိယာမသည် Sih 4. ကဲ့သို့သောဆီလီကွန်အရင်းအမြစ်သဘာဝဓာတ်ငွေ့သည်အပူချိန်မြင့်မားခြင်းနှင့်အလွှာတွင်အပ်နှံထားသည့်အလွှာတွင်အပ်နှံထားခြင်းဖြစ်သည်။

sihcl3 + H2 ⇒ si + 3hcl

အပူချိန်နှင့်လေဟာနယ်အခြေအနေများအရဆီလီကွန်အရင်းအမြစ်ဓာတ်ငွေ့ကိုဓာတုအငွေ့အခိုးအငွေ့ပိုင်းဆိုင်ရာအစသို့ကျွေးမွေးခဲ့သည်။ Polycrystalline ဆီလီကွန်ကိုနောက်ဆုံးတွင်ရရှိသော Semiconductor တန်း Qartz Bell Jar သည် Polycrystall Silicon CVD ဓာတ်ပေါင်းဖို၏အရေးပါသောအစိတ်အပိုင်းဖြစ်သည်။

PolyCrystalline ဆီလီကွန် CVD ဓာတ်ပေါင်းဖို

CVD ၏မြင့်မားသောအပူချိန်တုံ့ပြန်မှုအရ Semiconductor Grade Quartz Bell Jar သည်ယူနီဖောင်းသောအပူပတ်ဝန်းကျင်ကိုပေးနိုင်သည်။ မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောလင်းကျောက်ဆိုင်ရာပစ္စည်း (အပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်ကိုခုခံခြင်း (အပူချိန် 1100 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း) သည် CVD တုံ့ပြန်မှုတွင်တည်ငြိမ်စွာအလုပ်လုပ်နိုင်ပြီးတုံ့ပြန်မှု area ရိယာတွင်ယူနီဖောင်းအပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုကိုပြုလုပ်နိုင်သည်။ CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင် PH3 စသည့်အဆိပ်အတောက်ဖြစ်စေသောဓာတ်ငွေ့အစိတ်အပိုင်းများစွာရှိသည့်ဓာတ်ငွေ့အစိတ်အပိုင်းများစွာရှိသည်။ မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောလင်းကျောက်ဆိုင်ရာပစ္စည်းများကိုချေးထားခြင်းသည်အခြားပစ္စည်းများအား CVD လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်းအချိန်အတော်ကြာအလုပ်လုပ်နိုင်ပြီးအလွယ်တကူပြောင်းလဲခြင်းသို့မဟုတ်ပျက်စီးခြင်းမဟုတ်ပါ။

Quartz ခေါင်းလောင်းအိုးကို quartz အပူထိန်းသိမ်းမှုပြွန်နှင့် ဒေါင်လိုက် quartz သင်္ဘောနှင့် တွဲဖက်အသုံးပြုပြီး semiconductor ပေါင်းစပ် circuit ချစ်ပ်ထုတ်လုပ်ခြင်း၏ epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အများအားဖြင့် အသုံးပြုကြသည်။ epitaxial furnace သည် ယေဘူယျအားဖြင့် ဒေါင်လိုက်ဖွဲ့စည်းပုံဖြစ်ပြီး၊ ဒေါင်လိုက် quartz သင်္ဘော၏အပြင်ဘက်ရှိ quartz ခေါင်းလောင်းအိုးနှင့် quartz အပူထိန်းသိမ်းမှုပြွန်ကို ပံ့ပိုးမှုအဖြစ် ဒေါင်လိုက်ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ထားပါသည်။

semiconductor တန်းတန်းစီ Quartz Bell Jar ကိုမြင့်မားသောအပူချိန်ပတ် 0 န်းကျင်ရှိနောက်ထပ်ပစ္စည်းပစ္စယ၏နောက်ထပ်ပုံမှန်အသုံးချခြင်း။

Vetek Semiconductor တွင်ရင့်ကျက်သောနည်းပညာဆိုင်ရာအဖွဲ့တစ်ဖွဲ့ရှိသည်။ မည်သည့်ပုံသဏ် about ာန်သို့မဟုတ်မည်သည့်ပုံသဏ္ဌာန်သည်သင်လိုအပ်သည့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောလင်းလက်ဟန်းစ်၏မည်သည့်ပုံသဏ္ဌာန်ရှိရှိဖြစ်စေ,

Vetek Semiconductor ထုတ်ကုန်များဆိုင်များ -