tac coated နှင့်အတူ porous ဖိုက်

TAC coated နှင့်အတူ TAC coated နှင့်အတူပုန်းအောင်းသောဖောင်းပွမှုသည် Vetek ဆီမီးကွန်ဒတ်တင်သူမှအဆင့်မြင့်သော Semiconductor ပြုပြင်ထုတ်လုပ်သည့်ပစ္စည်းများဖြစ်သည်။ TAC Coated နှင့်အတူ tac coated နှင့်အတူ tac conated နှင့်အတူဖောင်းပွမှုနှင့် tacalum carbide (tantalum carbide (TAC) အပေါ်ယံလွှာ၏အားသာချက်များနှင့်ဓာတ်ငွေ့ permeability နှင့်အတူ။ Vetek Semiconductor သည်အပြိုင်အဆိုင်စျေးနှုန်းများဖြင့်အရည်အသွေးမြင့်ထုတ်ကုန်များကိုထောက်ပံ့ရန်ကတိက 0 တ်ပြုထားသည်။

စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ

Vetek Semiconductor သည်တရုတ်ထုတ်လုပ်သူနှင့်ကုန်ပစ္စည်းပေးသွင်းသူဖြစ်သည်porous ဖိုက်နှစ်ပေါင်းများစွာအတွေ့အကြုံနှင့်အတူ tac ကို coated နှင့်အတူ။ သင်နှင့်စီးပွားရေးဆက်ဆံရေးတည်ဆောက်ရန်မျှော်လင့်ပါသည်။

Vetek Semiconductor သည် TAC coated tac coated tac coated tactite နှင့် tacalum carbide ပေါင်းစပ်ဟုခေါ်သော VECMANDADENDARDER ထုတ်လုပ်မှုပစ္စည်းများကိုစတင်တည်ထောင်ခဲ့သည်။ ဤပစ္စည်းသည်ထူးခြားသော permeability နှင့်မြင့်မားသော porosity ကိုရရှိခဲ့ပြီးစံချိန်တင်စက်မှုလုပ်ငန်းအများဆုံး 75% အထိရောက်ရှိခဲ့သည်။ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော TAC ဖုံးအုပ်ခြင်းသည်ချေးယူမှုကိုမြှင့်တင်ပေးရုံသာမကခံနိုင်ရည်ရှိစေရန်အပိုဆောင်းအကာအကွယ်ပေးနိုင်သောအလွှာကိုလည်းထောက်ပံ့ပေးသည်။

အပူချိန်မြင့်မားသောပတ် 0 န်းကျင်ရှိဖိုက်, porus ဖြားယောင်းသောဖောင်းပွမှုရှိသောဖလူးစောင်းများနှင့် Tantalum carbide Powder ကဲ့သို့သော Crucible ပစ္စည်းများကိုမသင့်လျော်စွာအသုံးပြုခြင်းသည်ကာဗွန်ပါဝင်မှုကိုတိုးမြှင့်ခြင်းများကဲ့သို့ဖယ်ရှားနိုင်သည်။ တစ်ခါတစ်ရံတွင်ပုန်ကန်သောဖောင်းပွရောဂါ၏ permeability သည်မလုံလောက်နိုင်ပါ။ မြင့်မားသော permeability နှင့်အတူ porous ဖွက်ထားသောဖိုက်ဖန်းကျင်, အမှုန့်ဖယ်ရှားရေးနှင့်စိန်ခေါ်မှုများကိုရင်ဆိုင်နေရသည်။

Vetek Semiconductor သည် Tantalum carbide အပေါ်ယံအနက်နှင့်အတူ porous carbide ticep ည့်ဖြားပြာရည်, Tantalum Carbide သည်၎င်း၏မြင့်မားသောခွန်အားနှင့်မာကျောမှုကြောင့်လူသိများသော်လည်းကြီးမားသော porosity နှင့်မြင့်မားသော currity နှင့်အတူ Tantalum carbide ကိုဖန်တီးသည်မှာသိသာထင်ရှားသောစိန်ခေါ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ VETEK Semiconductor သည် 75% သို့ရောက်သောအခါ 75% အထိမြင့်မားသောစံချိန်စံညွှန်းများနှင့်အတူဆန်းသစ်သော Tantalum carbide ကိုတီထွင်ဆန်းသစ်တီထွင်မှုရှိနေသည်။

tac-cooted porous ဖိုက်ဖိုက်၏အသုံးပြုမှုသည် Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ထိရောက်မှုနှင့်အရည်အသွေးကိုသိသိသာသာတိုးတက်စေနိုင်သည်။ ၎င်း၏အလွန်ကောင်းမွန်သော permeability သည်အပူချိန်အခြေအနေများအောက်တွင်အကြောင်းအရာတည်ငြိမ်မှုကိုသေချာစေပြီးကာဗွန်အညစ်အကြေးများတိုးပွားလာမှုကိုထိရောက်စွာထိန်းချုပ်သည်။ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်မြင့်မားသော porosion ဒီဇိုင်းသည်စင်ကြယ်သောကြီးထွားမှုပတ် 0 န်းကျင်ကိုထိန်းသိမ်းရန်ပိုမိုကောင်းမွန်သောဓာတ်ငွေ့ပျံ့နှံ့စွမ်းဆောင်ရည်ကိုပေးသည်။

ကျွန်ုပ်တို့သည်ဖောက်သည်များအား Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်း၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန် TAC COUTED ပစ္စည်းများနှင့်အတူအလွန်ကောင်းမွန်သောဖောင်းတီပစ္စည်းများဖြင့်ပံ့ပိုးပေးရန်ကတိကဝတ်ပြုထားသည်။ သုတေသနဓာတ်ခွဲခန်းများသို့မဟုတ်စက်မှုလုပ်ငန်းထုတ်လုပ်မှုတွင်ဖြစ်စေဤအဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများသည်သင့်အားအလွန်ကောင်းမွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကိုရရှိရန်ကူညီနိုင်သည်။ ဒီတော်လှန်ရေးပစ္စည်းများအကြောင်းပိုမိုလေ့လာရန်နှင့် Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုကိုမောင်းနှင်ရန်ဆန်းသစ်တီထွင်မှုကိုစတင်ရန်ယနေ့ကျွန်ုပ်တို့ကိုဆက်သွယ်ပါ။

Pvt Method SIC Crystal ကြီးထွားမှု:

PVT method SiC Crystal Growth working diagram