SiC Epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်

Gan SIC EPI SUNPOR တွင်အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်နှင့်ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာတည်ငြိမ်မှုများဖြင့် Sicemonductor အပြောင်းအလဲအတွက်အရေးပါသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်ပြီး Gan Eplitagaxial Inge တိုးတက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်၏စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်ရုပ်ပစ္စည်းအရည်အသွေးကိုသေချာစေသည်။ Vetek Semiconductor သည်တရုတ်ကျွမ်းကျင်ပညာရှင်ထုတ်လုပ်သူတစ် ဦး ဖြစ်ပြီး SIC EPI SURELCE တွင် GAN Gan ထုတ်လုပ်သူဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည်သင်၏နောက်ထပ်တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုကိုစိတ်ရင်းမှန်ဖြင့်မျှော်လင့်ပါသည်။

CVD TAC ဖုံးထားသည့်သယ်ဆောင်သူသည်အဓိကအားဖြင့် Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်အတွက်အဓိကအားဖြင့်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ CVD TAC Coating Carrier ၏ Ultra-high minting point, အလွန်ကောင်းမွန်သောချေးယူမှုခံနိုင်ရည်နှင့်ထူးချွန်သောဓာတ်ငွေ့ခံနိုင်ရည်နှင့်ထူးချွန်သောတည်ငြိမ်မှုကို Semiconductor Epitagaxial PATAXAXAXIAL လုပ်ငန်းစဉ်တွင်ဤထုတ်ကုန်၏မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်ကိုဆုံးဖြတ်သည်။ သင့်ရဲ့နောက်ထပ်စုံစမ်းရေးကော်မရှင်ကိုကြိုဆိုပါတယ်။

Vetek Semiconductor ၏ TAC COC COCCEDESTORE (CVD) သည်ဖလပ်စ်၏မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ Tantalum carbide အပေါ်ယံပိုင်းကိုပြင်ဆင်ရန်ဓာတုအခိုးအငွေ့ (CVD) နည်းလမ်းကိုအသုံးပြုသည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည်ရင့်ကျက်ဆုံးနှင့်အကောင်းဆုံးသောအပေါ်ယံပိုင်းတွင်ဂုဏ်သတ္တိများရှိသည်။ TAC COC COCEDETETITE SURPORCAL သည် 0 န်ဆောင်မှုသက်တမ်းကိုတိုးချဲ့နိုင်သည်,

Vetek Semiconductor သည် TAC COCEATTOR ကိုလက်တွေ့ကျကျပြုလုပ်သည်။ ၎င်း၏ယုံကြည်စိတ်ချရသောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်အရည်အသွေးမြင့် TAC အပေါ်ယံလွှာသည် Sic Egitaxy Processings.we တွင်ထူးခြားသောရလဒ်များကိုတသမတ်တည်းပေးနိုင်သည်။

Vetek Semiconducter မှထုတ်လုပ်သော TAC Coating rotation plate သည်ထူးချွန်သော TAC ဖုံးအုပ်ခြင်း, TAC ဖုံးအုပ်ခြင်း,

Vetek Semiconductor ၏ TAC COTATES အတွက်တိကျစွာအင်ဂျင်နီယာကိုဒီဇိုင်းရေးဆွဲခြင်းသည်အထူးသဖြင့်ကြည်လင်သောကြည်လင်တိုးတက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်အထူးပြုလုပ်ထားသော application အမျိုးမျိုးအတွက်အထူးပြုလုပ်ထားပါသည်။ ၎င်းသည်၎င်း၏ယုံကြည်စိတ်ချရသောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်အရည်အသွေးမြင့်မားသောအဖုံးများသည်စရေး Crystal ကြီးထွားမှုလျှောက်လွှာများတွင်တသမတ်တည်းနှင့်ယူနီဖောင်းရလဒ်များကိုအထောက်အကူပြုသည်။