CVD SIC COUTEATOR COSPITE SUCIPORE

CVD SIC COCTITE CRAPITE SCAPOR သည်အထူးသဖြင့် Semiconductor Industry တွင်အထူးတိကျသောထုတ်လုပ်မှုအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ Graphite အလွှာသည်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသောခုခံခြင်း, ဤအောက်ခံသည် wafers နှင့်အခြားမြင့်မားသောတိကျပစ္စည်းများကိုပြုပြင်ခြင်းနှင့်ကိုင်တွယ်ခြင်းတို့ကိုထောက်ပံ့ရန်နှင့်ကိုင်တွယ်ရန်နှင့်ကိုင်တွယ်ရန် MOCVD, PECVD, PVD နှင့်အခြားပစ္စည်းများတွင်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။

CORE မှလွဲ. ,

● မြင့်မားသောအပူချိန်တည်ငြိမ်မှု: မြင့်မားသောသန့်ရှင်းရေးဖိုက်ဖိုက်သူ့ဟာသူအလွန်ကောင်းသောအပူတည်ငြိမ်မှုရှိပါတယ်။ Sic Nette နှင့် coated ပြီးနောက်၎င်းသည်အပူချိန်အလွန်အမင်းပတ်ဝန်းကျင်ရှိသည့်ပတ်ဝန်းကျင်ကိုခံရပ်နိုင်ပြီးအပူချိန်မြင့်မားသောပတ်ဝန်းကျင်တွင်အပူချိန်မြင့်မားသောလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက်သင့်တော်သည်။

● ထောင့်Ion ခုခံဖြေ - CVD SIC CISEATION သည်အက်စစ်နှင့်အယ်ကာလီဓာတ်ဆီခြင်းများကိုခံနိုင်ရည်ရှိပြီး CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင်ရှည်လျားသော 0 န်ဆောင်မှုပေးနိုင်သည်။

● မြင့်သောArdness နှင့် oxidation ခုခံ: CVD SIC အဖုံးသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောခဲယမ်းများ,

● ကောင်းသောအပူစီးကူး: CLDSTRATE နှင့် CVD SIC COSCATECATOR ၏ပေါင်းစပ်မှုသည်အခြေစိုက်စခန်းတွင်အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူဓာတ်လွှာကိုကောင်းမွန်စေသည်။

ကုန်ပစ္စည်းအသေးစိတ်အချက်အလက်များ

● ဝတ္တု: CHAPITE SUGSTRATE + CVD CISE

● အထူအထူ: ဖောက်သည်လိုအပ်ချက်အရစိတ်ကြိုက်ပြုပြင်နိုင်သည်

● သက်ဆိုင်သောပတ်ဝန်းကျင်: မြင့်မားသောအပူချိန်, ဖုန်စုပ်စက်, ဓာတ်ငွေ့ပတ်ဝန်းကျင်

စိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှု -

ဖောက်သည်များ၏မတူညီသောပစ္စည်းကိရိယာများနှင့်လုပ်ငန်းစဉ်များ၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန်အထူးစိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှုများကိုကျွန်ုပ်တို့ပေးပါသည်။ ဖောက်သည်၏တိကျသောအသုံးချပရိုဂရမ်များအရကွဲပြားခြားနားသောခဲသတ္တုအထူများ,

Veteksemi သည် CVD Silicon Carbide Oringing လုပ်ငန်းတွင်အမြဲအလုပ်လုပ်နေပြီးစက်မှုလုပ်ငန်း ဦး ဆောင် CVD SIC SIC CISIC ထုတ်လုပ်မှုနှင့်ကုန်ထုတ်လုပ်မှုအဆင့်ရှိသည်။ ကုန်ပစ္စည်းအချက်အလက်များသို့မဟုတ်စိတ်ကြိုက် 0 န်ဆောင်မှုများများပိုမိုလိုအပ်ပါက Vetek Semiconductor ကိုဆက်သွယ်ပါ။

CVD SIC ရုပ်ရှင်ကြည်လင်ဖွဲ့စည်းပုံ၏ Sem အချက်အလက်များ:

က semiconductorCVD SIC COUTION COSPITE SUCAPOR ထုတ်ကုန်ဆိုင်များ -