မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု Quartz Ech Ring

1.အဓိကအင်္ဂါရပ်များနှင့် အားသာချက်များ

• SiO₂ ≥ 99.999% ပါရှိသော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအဆင့် dehydroxylated fused quartz နှင့် တင်းကျပ်စွာ ထိန်းချုပ်ထားသော သတ္တုအညစ်အကြေးများ

• 1200°C အနီးတွင် 1100°C အထိ တည်ငြိမ်သော ဆက်တိုက်လုပ်ဆောင်မှု

• ဖလိုရင်း- နှင့် ကလိုရင်းအခြေခံ သတ္တုစပ်ဓာတုဗေဒ နှင့် စွမ်းအင်မြင့် ပလာစမာ ထိတွေ့မှုကို ပြင်းထန်စွာ ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

• ထပ်ခါတလဲလဲ အခန်းတွင်း အပူချိန် လည်ပတ်မှုအောက်တွင် အပူပိုင်းချဲ့ထွင်မှု နည်းပါးပြီး ကောင်းသော အပူ-ရှော့ခ် စွမ်းဆောင်ရည်

• အခန်း၏ အောက်ခံဖိအားနှင့် ဓာတ်ငွေ့ဖွဲ့စည်းမှုဖြစ်စဉ်ကို ကာကွယ်ရန် ဖုန်စုပ်စုပ်ထုတ်မှု နည်းပါးသည်။

• အခန်းတွင်း အံဝင်ခွင်ကျနှင့် ပလာစမာနယ်နိမိတ်အဓိပ္ပါယ်အတွက် ပွတ်တိုက်ထိတွေ့မျက်နှာပြင်များဖြင့် မိုက်ခရိုအဆင့် အတိုင်းအတာထိန်းချုပ်မှု

• ပြင်ဆင်သတ်မှတ်နိုင်သော ဒီဇိုင်းများ- ပြားချပ်ချပ်ချပ်များ၊ အဆင့်လိုက် ထွင်းထုထားသော လက်စွပ်များ၊ နေရာချထားခြင်း/ထိန်းသိမ်းထားသော လက်စွပ်များနှင့် အကြီးစား etch tool ပလပ်ဖောင်းများအတွက် စိတ်ကြိုက်ပရိုဖိုင်များ အပြည့်အစုံ

2.ရိုးရိုးအပလီကေးရှင်းများ

High Purity Quartz Etch Rings ကို ခြောက်သွေ့သော ပလာစမာ etch လုပ်ငန်းစဉ် အခန်းများတွင် အသုံးပြုသည်-

• လော့ဂျစ်နှင့် မန်မိုရီ ကိရိယာ ပလာစမာ မှတ်သားမှု အဆင့်များ

• SiC နှင့် GaN ပါဝါ-စက်ပစ္စည်း etch လုပ်ငန်းစဉ်များ

• High-aspect-ratio ဖွဲ့စည်းပုံ etch

• Optical နှင့် compound- semiconductor substrate plasma processing

• အဆင့်မြင့် ထုပ်ပိုးမှု ပလာစမာ အက်ဆစ်နှင့် ဆက်စပ် သန့်ရှင်းရေး အဆင့်များ

• RIE/ICP ဓာတ်ခွဲခန်းနှင့် ထုတ်လုပ်ရေး etch tools များ

3.အဓိက နည်းပညာဆိုင်ရာ ကန့်သတ်ချက်များ

• ပစ္စည်း- semiconductor-grade dehydroxylated fused quartz၊ SiO₂ ≥ 99.999%

• Wafer လိုက်ဖက်မှု- 2/4/6/8/12 လက်မ ဆီလီကွန်၊ SiC၊ GaN နှင့် နီလာ

• လည်ပတ်အပူချိန် −20°C မှ 1100°C ဆက်တိုက်; ရေတို အမြင့်ဆုံး 1200°C ခန့်

• အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်များ- ပလာစမာအစွန်းများကို ကန့်သတ်ခြင်း၊ ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုလမ်းညွှန်မှု၊ အစွန်းများကို အကာအကွယ်ပေးခြင်းနှင့် အခန်းတွင်း အထီးကျန်ခြင်း

• စက်အရည်အသွေး- မိုက်ခရိုနအဆင့် ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ ပွတ်တိုက်ထားသော မျက်နှာပြင်များ၊ ထိန်းချုပ်ထားသော အစွန်းများနှင့် သန့်ရှင်းသော အပြီးသတ်မှု

• ဖွဲ့စည်းပုံရွေးချယ်စရာများ- ပြားချပ်ချပ်ကွင်း၊ အဆင့်လိုက် ထွင်းထုထားသော လက်စွပ်၊ တည်နေရာ/ထိန်းသိမ်းသည့် လက်စွပ်နှင့် စိတ်ကြိုက် ဂျီသြမေတြီများ

• စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်ခြင်း- အပြင်/အတွင်းအချင်း၊ အထူ၊ ခြေလှမ်းအမြင့်၊ အင်္ဂါရပ်များတည်နေရာရှာဖွေခြင်း၊ chamfers နှင့် ပုံတစ်ပုံချင်းစီအတွက် အင်တာဖေ့စ်အသေးစိတ်များ

4.VeTek High Purity Quartz Ech Rings ကို ဘာကြောင့် ရွေးချယ်တာလဲ။

VeTek Semiconductor သည် etch နှင့် အပူပေးကိရိယာများအတွက် process-critical quartz hardware ကို ထောက်ပံ့ပေးသည်။ ထုထည်လက်စွပ်များအတွက်၊ အာရုံစိုက်သည်မှာ-

• ခေတ်မီခြောက်သွေ့သော သတ္တုစပ်ပတ်ဝန်းကျင်နှင့် လိုက်ဖက်သော မျက်နှာပြင်သန့်ရှင်းမှုနှင့် ပစ္စည်းသန့်ရှင်းမှု

• တည်ငြိမ်သော ပလာစမာနယ်နိမိတ်ထိန်းချုပ်မှုကို ပံ့ပိုးပေးသည့် အတိုင်းအတာ တိကျမှုနှင့် ထပ်တလဲလဲနိုင်သော အခန်းကို အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေသည်။

• OEM ပုံစံ အစားထိုးခြင်းနှင့် စိတ်ကြိုက်အခန်းကြားခံများအတွက် ဒီဇိုင်းပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်

• wafer carriers များ၊ မီးဖိုပြွန်များ၊ လှေများနှင့် ဆက်စပ် လုပ်ငန်းစဉ် အစိတ်အပိုင်းများ ပါ၀င်သည့် ပြီးပြည့်စုံသော Quartz အစိတ်အပိုင်း အပိုင်းအခြား

မြင့်မားသောသန့်စင်မှု၊ ပလာစမာကြာရှည်ခံမှုနှင့် တင်းကျပ်သောဂျီသြမေတြီထိန်းချုပ်မှုတို့ကို ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့်၊ VeTek မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု Quartz Etch Rings သည် wafer etch တစ်ပြေးညီညီညွှတ်မှုကိုတိုးတက်စေကာ၊ အစွန်းနှင့်ဆက်စပ်သောချို့ယွင်းချက်များကိုလျှော့ချရန်နှင့် ခြောက်သွေ့သောပလာစမာတူးလ်တူးလ်များတွင် ပိုမိုတည်ငြိမ်သောထုတ်လုပ်မှုသံသရာများကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။