ထုတ်ကုန်များ

VECK ၏ CVD CISIC CICATE SIC COUNT ကိုအဓိကအားဖြင့် SI SIGTAGAXY တွင်အသုံးပြုသည်။ ၎င်းသည်များသောအားဖြင့်ဆီလီကွန်တိုးချဲ့ရေးစည်များနှင့်အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။ ၎င်းသည် Sicemonductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုဆိုင်ရာဖြန့်ဖြူးရေးဖြန့်ဖြူးခြင်းအားကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်ဖြန့်ဖြူးခြင်းအားကျယ်ပြန့်သော CVD CIC COSFLE ၏ထူးခြားသောအပူချိန်နှင့်တည်ငြိမ်မှုကိုပေါင်းစပ်ထားသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည်သင့်အားအဆင့်မြင့်နည်းပညာနှင့်အရည်အသွေးမြင့်ထုတ်ကုန်ဖြေရှင်းနည်းများကိုယူဆောင်လာနိုင်သည်ဟုကျွန်ုပ်တို့ယုံကြည်သည်။

Vetek Semiconductor ၏ CVD SIC sicfite cylinder သည် Semiconductor ပစ္စည်းကိရိယာများတွင်အဓိကကျသော semiconductor ပစ္စည်းကိရိယာများတွင်အဓိကကျသည်။ ၎င်းသည်ပစ္စည်းဥစ်စာကိုထိန်းသိမ်းစောင့်ရှောက်ခြင်း, ခြွင်းချက် 0 တ်ဆင်ခြင်းနှင့်ချေးခြင်းခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းဖြင့်စိန်ခေါ်မှုပတ်ဝန်းကျင်တွင်အသက်ရှည်ခြင်းနှင့်တည်ငြိမ်မှုကိုသေချာစေသည်။ ဤအစုများကိုအသုံးချခြင်းသည် semiconductor device စွမ်းဆောင်ရည်ကိုတိုးမြှင့်ခြင်း, သက်တမ်းကြာရှည်စွာပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုလိုအပ်ချက်များနှင့်လျော့ပါးစေရန်အတွက်ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုလိုအပ်ချက်များနှင့်ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များနှင့်ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များနှင့်ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များနှင့်ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များနှင့်ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုအန္တရာယ်များကိုလျော့နည်းစေသည်။

CVD SiC Coating Nozzles များသည် ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ပစ္စည်းများကို တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်နေစဉ်အတွင်း LPE SiC epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်တွင်အသုံးပြုသည့် အရေးကြီးသောအစိတ်အပိုင်းများဖြစ်သည်။ အဆိုပါ နော်ဇယ်များကို ပုံမှန်အားဖြင့် အပူချိန်မြင့်ပြီး ဓာတုဗေဒနည်းအရ တည်ငြိမ်သော ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ပစ္စည်းဖြင့် ပြုလုပ်ထားပြီး ကြမ်းတမ်းသော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တည်ငြိမ်မှုရှိစေရန်အတွက် ဖြစ်သည်။ တစ်ပြေးညီ အစစ်ခံရန်အတွက် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားပြီး၊ ၎င်းတို့သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ အက်ပလီကေးရှင်းများတွင် စိုက်ပျိုးထားသော epitaxial အလွှာများ၏ အရည်အသွေးနှင့် တူညီမှုကို ထိန်းချုပ်ရာတွင် အဓိက အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ သင်၏နောက်ထပ်မေးမြန်းမှုကိုကြိုဆိုပါသည်။

Vetek Semiconductor ၏ CVD CIC CICICAST ကာကွယ်ရေးသည် LPE Sic Estitaxy, LPE SIC ExitAxANY ဟူသောအသုံးအနှုန်းသည်ဖိအားနိမ့်သောဓာတုအငွေ့ (LPCVD) တွင်ဖိအားနိမ့်သော Estitaxy (LPE) ကိုရည်ညွှန်းသည်။ Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင် LPE သည် Silicon Eplitaxial Layers သို့မဟုတ်အခြား Semiconductor EpitaxDuctor EpitaxDuctor ExitAXDADE ExitAXDADE ExitAxial Layerss.pls များပြုလုပ်ရန်မကြာခဏဆိုသလို LPE သည်အရေးကြီးသောလုပ်ငန်းစဉ်နည်းပညာဖြစ်သည်။

Vetek Semiconductor သည် CVD SIC cabide လုပ်ခြင်း, ကျွန်ုပ်တို့သည် Sic Puilder Carrier, Wafer Chuck, Wafer Carrier Tray, Planetary Disk နှင့် So.with 1000 အလယ်တန်းသန့်ရှင်းသောအခန်း 1000 နှင့်သန့်စင်ခြင်းကိရိယာ 1000 ကိုပေးနိုင်သည် မကြာမီသင်ထံမှ။

Vetek Semiconductor သည် တိကျသောလိုအပ်ချက်များနှင့်အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်သော SiC Coating Inlet Ring အတွက် စိတ်ကြိုက်ဒီဇိုင်းများကို ဖန်တီးရန်အတွက် သုံးစွဲသူများနှင့် အနီးကပ်ပူးပေါင်းဆောင်ရွက်ခြင်းတွင် ထူးချွန်ပါသည်။ ဤ SiC Coating Inlet Ring များသည် CVD SiC စက်ပစ္စည်းများနှင့် Silicon carbide epitaxy ကဲ့သို့သော အမျိုးမျိုးသောအပလီကေးရှင်းများအတွက် စေ့စပ်သေချာစွာ တီထွင်ဖန်တီးထားပါသည်။ အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်သော SiC Coating Inlet Ring ဖြေရှင်းချက်များအတွက်၊ ပုဂ္ဂိုလ်ရေးသီးသန့်အကူအညီအတွက် Vetek Semiconductor သို့ ဆက်သွယ်ရန် မတွန့်ဆုတ်ပါနှင့်။