အိမ်
ကြှနျုပျတို့အကွောငျး
ကုမ္ပဏီအကြောင်း
အမြဲမေးလေ့ရှိသောမေးခွန်းများ
ထုတ်ကုန်များ
Tantalum Carbide Coating
Sic တစ်ခုတည်း Crystal ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်အပိုပစ္စည်းများ
SiC Epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်
UV LED လက်ခံကိရိယာ
ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာ
Solid Silicon Carbide
ဆီလီကွန် Epitaxy
ဆီလီကွန်ကာဗိုက် Epitaxy
MOCVD နည်းပညာ
RTA/RTP လုပ်ငန်းစဉ်
ICP/PSS Etching လုပ်ငန်းစဉ်
အခြားဖြစ်စဉ်
ALD
အထူးဂရပ်ဖစ်
Pyrolytic Carbon Coating ၊
Vitreous Carbon Coating ၊
Porous Graphite
Isotropic Graphite
ဆီလီကွန်ဂရပ်ဖစ်
High Purity Graphite Sheet
ကာဗွန်ဖိုက်ဘာ
C/C ပေါင်းစပ်
တောင့်တင်းသောခံစားမှု
နူးညံ့သောခံစားမှု
ဆီလီကွန်ကာဗိုက် ကြွေထည်များ
High Purity SiC Powder ၊
Oxidation နှင့် Diffusion မီးဖို
အခြား Semiconductor ကြွေထည်များ
Semiconductor Quartz
အလူမီနီယမ်အောက်ဆိုဒ်ကြွေထည်
ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်
Porous SiC
Wafer
မျက်နှာပြင်ကုသမှုနည်းပညာ
နည်းပညာဝန်ဆောင်မှု
သတင်း
ကုမ္ပဏီသတင်း
စက်မှုသတင်း
ဒေါင်းလုဒ်လုပ်ပါ။
ဒေါင်းလုဒ်လုပ်ပါ။
စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။
ကြှနျုပျတို့ကိုဆကျသှယျရနျ
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
ဝဘ်မီနူး
အိမ်
ကြှနျုပျတို့အကွောငျး
ကုမ္ပဏီအကြောင်း
အမြဲမေးလေ့ရှိသောမေးခွန်းများ
ထုတ်ကုန်များ
Tantalum Carbide Coating
Sic တစ်ခုတည်း Crystal ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်အပိုပစ္စည်းများ
SiC Epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်
UV LED လက်ခံကိရိယာ
ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာ
Solid Silicon Carbide
ဆီလီကွန် Epitaxy
ဆီလီကွန်ကာဗိုက် Epitaxy
MOCVD နည်းပညာ
RTA/RTP လုပ်ငန်းစဉ်
ICP/PSS Etching လုပ်ငန်းစဉ်
အခြားဖြစ်စဉ်
ALD
အထူးဂရပ်ဖစ်
Pyrolytic Carbon Coating ၊
Vitreous Carbon Coating ၊
Porous Graphite
Isotropic Graphite
ဆီလီကွန်ဂရပ်ဖစ်
High Purity Graphite Sheet
ကာဗွန်ဖိုက်ဘာ
C/C ပေါင်းစပ်
တောင့်တင်းသောခံစားမှု
နူးညံ့သောခံစားမှု
ဆီလီကွန်ကာဗိုက် ကြွေထည်များ
High Purity SiC Powder ၊
Oxidation နှင့် Diffusion မီးဖို
အခြား Semiconductor ကြွေထည်များ
Semiconductor Quartz
အလူမီနီယမ်အောက်ဆိုဒ်ကြွေထည်
ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်
Porous SiC
Wafer
မျက်နှာပြင်ကုသမှုနည်းပညာ
နည်းပညာဝန်ဆောင်မှု
သတင်း
ကုမ္ပဏီသတင်း
စက်မှုသတင်း
ဒေါင်းလုဒ်လုပ်ပါ။
ဒေါင်းလုဒ်လုပ်ပါ။
စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။
ကြှနျုပျတို့ကိုဆကျသှယျရနျ
ထုတ်ကုန်ရှာဖွေမှု
ဘာသာစကား
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
မီနူးမှ ထွက်ပါ။
အိမ်
သတင်း
သတင်း
ကျွန်ုပ်တို့၏အလုပ်၏ရလဒ်များ၊ ကုမ္ပဏီသတင်းများနှင့် သင့်အား အချိန်နှင့်တစ်ပြေးညီ တိုးတက်မှုများနှင့် ဝန်ထမ်းခန့်အပ်မှုနှင့် ဖယ်ရှားမှုအခြေအနေများအကြောင်း သင့်အားမျှဝေလိုသည်မှာ ဝမ်းမြောက်ပါသည်။
ကုမ္ပဏီသတင်း
စက်မှုသတင်း
11
2024-12
သုံးမျိုး sich single crystal တိုးတက်မှုနှုန်းနည်းပညာ
ကြီးထွားလာသော Sic Sic Crystals အတွက်အဓိကနည်းလမ်းများမှာ - ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့သယ်ယူပို့ဆောင်ရေး (PVT), မြင့်မားသောဓာတုအခိုးအငွေ့ (HTCVD) နှင့်မြင့်မားသောအပူချိန်ဖြေရှင်းချက် (HTCVD) နှင့်အပူချိန်ဖြေရှင်းချက်တိုးတက်မှုနှုန်း (HTCVD) နှင့်အပူချိန်ဖြေရှင်းချက်တိုးတက်မှုနှုန်း (HTCVD) နှင့်မြင့်မားသောအပူချိန် Solidition (HTCVD) နှင့်အပူချိန်ဖြေရှင်းချက်တိုးတက်မှုနှုန်းမြင့်
02
2024-12
Photovoltiics ၏နယ်ပယ်ရှိဆီလီကွန်ကာဗိုက်ကြွေထည်များ - Vetek Semiconductor
နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံး photovoltaic စက်မှုလုပ်ငန်းဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူပျံ့နှံ့နေသော focks များနှင့် LPCVD famesces များသည်နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံးဆဲလ်များ၏ထိရောက်သောစွမ်းဆောင်ရည်ကိုတိုက်ရိုက်သက်ရောက်စေသောနေရောင်ခြည်စွမ်းအင်ထုတ်လုပ်မှုအတွက်အဓိကကိရိယာများဖြစ်သည်။ ပြည့်စုံသောထုတ်ကုန်စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်အသုံးပြုမှုကုန်ကျစရိတ်အပေါ် အခြေခံ. Silicon Carbide Weitics သည်နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံးဆဲလ်များထက်ပိုမိုအားသာချက်များရှိသည်။ Photovoltaic လုပ်ငန်းတွင်ဆီလီကွန်ကာဗွန်ကြွေထည်များအသုံးပြုခြင်းသည် Photovoltaic လုပ်ငန်းတွင် Potovoltaic Enterpres သည်အရန်နိုင်ငံ၏ပစ္စည်းရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှုကုန်ကျစရိတ်ကိုလျှော့ချရန်, Photovoltaic နယ်ပယ်ရှိဆီလီကွန်ကာဗွန်ကြွေထည်ပစ္စည်းများ၏အနာဂတ်လမ်းကြောင်းသည်အဓိကအားဖြင့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း, ပိုမိုကောင်းမွန်သောဝန်ဆောင်မှုများ,
27
2024-11
Siconductor Process တွင် CIC soliguctor processing တွင် CVD TAC Coating ဖြစ်စဉ်သည်မည်သည့်စိန်ခေါ်မှုများကိုပြုလုပ်သနည်း။
ပစ္စည်းအရင်းအမြစ်နှင့်သန့်ရှင်းရေးထိန်းချုပ်မှု, လုပ်ငန်းစဉ် parameter upymimization, ပစ္စည်းကိရိယာပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုဆိုင်ရာတည်ငြိမ်မှု, ပစ္စည်းကိရိယာပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုဆိုင်ရာတည်ငြိမ်မှု, ပစ္စည်းကိရိယာပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုဆိုင်ရာတည်ငြိမ်မှု, သက်ဆိုင်ရာစက်မှုလုပ်ငန်းဖြေရှင်းချက်အဖြစ်ကောင်းစွာ။
25
2024-11
တန်တလမ်ကာဘိုက် (TaC) အပေါ်ယံပိုင်းသည် SiC တစ်ခုတည်းသော ပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမှုတွင် ဆီလီကွန်ကာဗိုက် (SiC) အပေါ်ယံထက် အဘယ်ကြောင့် သာလွန်သနည်း။ - VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း
SiC တစ်ခုတည်းသောပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမှု၏အသုံးချမှုရှုထောင့်မှ၊ ဤဆောင်းပါးသည် TaC coating နှင့် SIC coating ၏အခြေခံရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဘောင်များကို နှိုင်းယှဉ်ပြီး SiC အပေါ်ယံပိုင်း၏အခြေခံအားသာချက်များကို အပူချိန်မြင့်မားစွာခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ ပြင်းထန်သောဓာတုဗေဒတည်ငြိမ်မှု၊ အညစ်အကြေးများကို လျှော့ချပေးသည့်အခြေခံအားသာချက်များကို ရှင်းပြထားသည်။ ကုန်ကျစရိတ်သက်သာသည်။
«
1
...
4
5
6
7
8
...
21
»
WhatsApp
Tina
QQ
TradeManager
Skype
E-Mail
VeTek
VKontakte
WeChat
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
Reject
Accept