သတင်း

ASM အတွက် SiC coated graphite susceptor သည် epitaxy စနစ်အတွင်းရှိ အစားထိုးအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုမျှသာမဟုတ်ပါ။ ၎င်းသည် အပူပိုင်းတူညီမှု၊ wafer သန့်ရှင်းမှု၊ အပေါ်ယံပိုင်း တာရှည်ခံမှု၊ အခန်းတွင်း တည်ငြိမ်မှုနှင့် ရေရှည်ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်တို့ကို လွှမ်းမိုးသည့် လုပ်ငန်းစဉ်-အရေးပါသော သယ်ဆောင်သူဖြစ်သည်။

CVD TaC Coating Cover သည် အကာအကွယ်အဖုံး သို့မဟုတ် ဂရပ်ဖိုက် အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုမျှသာ မဟုတ်ပါ။ အပူချိန်မြင့်သော ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ၎င်းသည် အခန်းတွင်း သန့်ရှင်းမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှု၊ တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း သက်တမ်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် ညီညွတ်မှုကို လွှမ်းမိုးနိုင်သည်။

PECVD ထုတ်လုပ်မှုတွင် ပလာစမာပါဝါ သို့မဟုတ် ဓာတ်ငွေ့ ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ ပြသာနာများစွာဖြင့် မစတင်ပါ။ သူတို့သည် wafers များကိုကိုင်ဆောင်သော carrier မှစတင်သည်။