စက်မှုသတင်း

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုသည် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော လုပ်ငန်းစဉ်များဆီသို့ ရွေ့လျားလာသည်နှင့်အမျှ ပစ္စည်း၏သန့်ရှင်းမှုနှင့် အပူတည်ငြိမ်မှုတို့သည် ယခင်ကထက် ပိုမိုအရေးကြီးလာသည်။ Hyperpure graphite တောင့်တင်းသော ခံစားမှုသည် ပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမှု မီးဖိုများ၊ epitaxial ဓာတ်ပေါင်းဖိုများ၊ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ထုတ်လုပ်မှုစနစ်များနှင့် အခြားသော အပူချိန်မြင့်အသုံးချမှုများအတွက် ယုံကြည်စိတ်ချရဆုံးသော လျှပ်ကာပစ္စည်းများထဲမှ တစ်ခုအဖြစ် ပေါ်ထွက်လာပါသည်။

SiC Diffusion Furnace Tube သည် ၎င်း၏ထူးခြားသောအပူတည်ငြိမ်မှု၊ ဓာတုခံနိုင်ရည်နှင့် တာရှည်ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းတို့ကြောင့် ခေတ်မီတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှုတွင် အရေးပါသောအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်လာသည်။ ဤဆောင်းပါးတွင် VeTek သည် ပျံ့နှံ့နေသောမီးဖို၏စွမ်းဆောင်ရည်ကိုမြှင့်တင်ရန်၊ wafer အရည်အသွေးကိုမြှင့်တင်ရန်နှင့် အလုံးစုံထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်များကိုလျှော့ချနိုင်သည့် အဆင့်မြင့် SiC ဖြေရှင်းချက်များကို မည်ကဲ့သို့ပေးဆောင်သည်ကို ဤဆောင်းပါးတွင် စူးစမ်းလေ့လာထားသည်။ ၎င်း၏ဖွဲ့စည်းပုံ၊ အားသာချက်များ၊ အပလီကေးရှင်းများ၊ နည်းပညာဆိုင်ရာ သတ်မှတ်ချက်များနှင့် ၎င်းသည် ရိုးရာ quartz နှင့် alumina ပြွန်များကို အဘယ်ကြောင့် ပို၍ပို၍ အစားထိုးလာသည်ကို လေ့လာနိုင်မည်ဖြစ်သည်။

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ်ခြင်း၊ ပုံဆောင်ခဲ ကြီးထွားမှုနည်းပညာနှင့် အဆင့်မြင့် ပစ္စည်း ပြုပြင်ခြင်းများ ဆက်လက် တိုးတက်နေသဖြင့် အလွန်သန့်ရှင်းပြီး အပူဓာတ် တည်ငြိမ်သော အစိတ်အပိုင်းများ လိုအပ်ချက် သိသိသာသာ တိုးလာပါသည်။ ဤအရေးပါသော အစိတ်အပိုင်းများထဲတွင် Glassy Carbon Coated Graphite Crucible သည် အပူချိန်မြင့်ပြီး သန့်စင်မြင့်မားသော ပတ်ဝန်းကျင်များအတွက် ယုံကြည်စိတ်ချရဆုံး ဖြေရှင်းချက်တစ်ခုအဖြစ် ပေါ်ထွက်လာပါသည်။

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှုသည် ပိုမိုမြင့်မားသောတိကျမှု၊ သန့်ရှင်းမှုနှင့် အပူတည်ငြိမ်မှုဆီသို့ ဆက်လက်တိုးတက်နေသဖြင့် အဆင့်မြင့် coating ပစ္စည်းများသည် process equipment များတွင် အရေးပါသောအစိတ်အပိုင်းများဖြစ်လာသည်။ ၎င်းတို့ထဲတွင် Tantalum Carbide Coating Ring သည် မြင့်မားသောအပူချိန်၊ ချေးစားမှု၊ ပလာစမာတိုက်စားမှုနှင့် အမှုန်အမွှားများ ညစ်ညမ်းမှုတို့ကို ထူးထူးခြားခြား ခံနိုင်ရည်ရှိသောကြောင့် ထင်ရှားသည်။

ရရှိနိုင်သောနည်းပညာများထဲတွင် အရွယ်အစားကြီးမားသော ခုခံမှုအပူပေးသည့် SiC ပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမှုမီးဖိုသည် ကြီးမားသောအချင်း၊ ချွတ်ယွင်းမှုနည်းပါးသော SiC ပုံဆောင်ခဲများကို ပိုမိုကောင်းမွန်သော လိုက်လျောညီထွေရှိပြီး ထိရောက်မှုဖြင့် ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အရေးကြီးသောဖြေရှင်းချက်တစ်ခုအဖြစ် ပေါ်ထွက်လာပါသည်။ ဤဆောင်းပါးသည် ဤနည်းပညာအလုပ်လုပ်ပုံ၊ ၎င်း၏အားသာချက်များ၊ အသုံးချပရိုဂရမ်များနှင့် လုပ်ငန်းခေါင်းဆောင်များသည် Veteksemi မှ ဆန်းသစ်သောဖြေရှင်းချက်များကို အဘယ်ကြောင့်ယုံကြည်ရကြောင်း စူးစမ်းလေ့လာထားသည်။

ASM အတွက် SiC coated graphite susceptor သည် epitaxy စနစ်အတွင်းရှိ အစားထိုးအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုမျှသာမဟုတ်ပါ။ ၎င်းသည် အပူပိုင်းတူညီမှု၊ wafer သန့်ရှင်းမှု၊ အပေါ်ယံပိုင်း တာရှည်ခံမှု၊ အခန်းတွင်း တည်ငြိမ်မှုနှင့် ရေရှည်ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်တို့ကို လွှမ်းမိုးသည့် လုပ်ငန်းစဉ်-အရေးပါသော သယ်ဆောင်သူဖြစ်သည်။

CVD TaC Coating Cover သည် အကာအကွယ်အဖုံး သို့မဟုတ် ဂရပ်ဖိုက် အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုမျှသာ မဟုတ်ပါ။ အပူချိန်မြင့်သော ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ၎င်းသည် အခန်းတွင်း သန့်ရှင်းမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှု၊ တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း သက်တမ်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် ညီညွတ်မှုကို လွှမ်းမိုးနိုင်သည်။

PECVD ထုတ်လုပ်မှုတွင် ပလာစမာပါဝါ သို့မဟုတ် ဓာတ်ငွေ့ ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ ပြသာနာများစွာဖြင့် မစတင်ပါ။ သူတို့သည် wafers များကိုကိုင်ဆောင်သော carrier မှစတင်သည်။

မှန်ကန်သော Semiconductor Quartz Crucible ကိုရွေးချယ်ခြင်းသည် အသေးစားဝယ်ယူမှုအသေးစိတ်မဟုတ်ပါ။ ၎င်းသည် အရည်ပျော်ခြင်း သန့်ရှင်းမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှု၊ ပုံဆောင်ခဲဆွဲခြင်း ညီညွတ်မှု၊ အထွက်နှုန်း ထိန်းချုပ်မှုနှင့် ကြီးထွားမှုလိုင်းတစ်ခုလုံး၏ ဝန်ဆောင်မှုရစ်သမ်အပေါ် တိုက်ရိုက်သက်ရောက်သည်။

မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောဂရပ်ဖိုက်မှုန့်များသည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၊ လျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၊ အဆင့်မြင့်ကြွေထည်ပစ္စည်းများနှင့် အပူချိန်မြင့်မားသောစက်မှုလုပ်ငန်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အရေးပါသောပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်လာသည်။ သို့သော် မြင့်မားသော သန့်စင်မှုရှိသော ဂရပ်ဖိုက်မှုန့်ကို အတိအကျ အဓိပ္ပါယ်ဖွင့်ဆိုထားသည်မှာ၊ ၎င်းသည် အဘယ်ကြောင့် လိုအပ်သော ပတ်ဝန်းကျင်တွင် စံဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်းများထက် သာလွန်သနည်း။

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှုသည် ပိုမိုတိကျမှု၊ မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် ပိုမိုပြင်းထန်သော ပလာစမာပတ်ဝန်းကျင်များဆီသို့ ရွေ့လျားလာသည်နှင့်အမျှ အရေးကြီးသောအစိတ်အပိုင်းများအတွက် ပစ္စည်းရွေးချယ်မှုသည် ပို၍အရေးကြီးလာသည်။ Tantalum Carbide Coating Ring သည် ၎င်း၏ထူးခြားသော မာကျောမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် ဓာတုဗေဒ ခံနိုင်ရည်တို့ကြောင့် ပလာစမာ-မျက်နှာနှင့် အပူချိန်မြင့်သော အသုံးချမှုများအတွက် အဓိကဖြေရှင်းချက်တစ်ခုအဖြစ် ထွက်ပေါ်လာခဲ့သည်။ ဤဆောင်းပါးတွင် tantalum carbide coating ring သည် မည်ကဲ့သို့ လုပ်ဆောင်သည်၊ ၎င်းသည် သမားရိုးကျပစ္စည်းများကို အဘယ်ကြောင့် ပိုမိုကောင်းမွန်စေသနည်း၊ နှင့် VeTek တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးတာမှ ဖြေရှင်းချက်များကို ထိပ်တန်းထုတ်လုပ်သူမှ အဘယ်ကြောင့် ယုံကြည်ရကြောင်း ဤဆောင်းပါးတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် နက်နက်ရှိုင်းရှိုင်း စူးစမ်းရှာဖွေပေးပါသည်။

ဆီလီကွန်ကာဗိုက် (SiC) ကြွေထည် wafer လှေများသည် ခေတ်မီတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် photovoltaic ထုတ်လုပ်မှုပတ်ဝန်းကျင်များတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောကိရိယာများအဖြစ် ပေါ်ထွက်လာခဲ့သည်။ ဤအဆင့်မြင့် အစိတ်အပိုင်းများသည် ဓာတ်တိုးခြင်း၊ ပျံ့နှံ့ခြင်း၊ epitaxial ကြီးထွားမှုနှင့် ဓာတုအငွေ့များ စုပုံခြင်းကဲ့သို့သော wafer လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။

TaC (Tantalum Carbide) coating rings များသည် အထူးသဖြင့် ကြမ်းတမ်းသောပတ်ဝန်းကျင်နှင့် ထိတွေ့သည့် စက်ပစ္စည်းများအတွက် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အဓိကအစိတ်အပိုင်းများဖြစ်သည်။ ဤဘလော့ဂ်သည် TaC coating rings၊ semiconductor လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ၎င်းတို့၏ အသုံးချမှုနှင့် VeTek ၏ TaC coating solutions များသည် လုပ်ငန်းကျွမ်းကျင်သူများအတွက် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်သည့်အတွက်ကြောင့်ဖြစ်သည် ။ ၎င်းတို့၏ စွမ်းဆောင်ရည်၊ ကုန်ကျစရိတ်သက်သာမှု၊ နှင့် ကြာရှည်ခံမှုတို့ကို စူးစမ်းလေ့လာခြင်းဖြင့်၊ ဤဆောင်းပါးသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ကိရိယာ အရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ရာတွင် ဤအဆင့်မြင့် အပေါ်ယံအလွှာများ ပါဝင်သည့် အခန်းကဏ္ဍကို မီးမောင်းထိုးပြထားသည်။

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၊ ဆိုလာဆဲလ်နှင့် မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်များ ထုတ်လုပ်မှုတွင်၊ wafer သန့်ရှင်းရေး၊ etching နှင့် မျက်နှာပြင်ပြင်ဆင်ခြင်းကဲ့သို့သော တိကျသောစိုစွတ်သောလုပ်ငန်းစဉ်များသည် အလွန်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်ကိုသေချာစေသော သန့်စင်မှုလိုအပ်သောပစ္စည်းများနှင့် ကိရိယာများဖြစ်သည်။ High-Purity Quartz Bath သည် ဤဂုဏ်ရည်များကို ပေါင်းစပ်ပေါင်းစပ်ထားသော quartz တည်ဆောက်မှုဖြင့် ပံ့ပိုးပေးသောကြောင့် ၎င်းသည် ခေတ်မီဖန်တီးမှုပတ်ဝန်းကျင်၏ အခြေခံအုတ်မြစ်ဖြစ်သည်။

နည်းပညာဆန်းသစ်တီထွင်မှု၏ရှေ့တန်းမှဆယ်စုနှစ်နှစ်ခုအနေဖြင့်, ငါအစိတ်အပိုင်းများလာ။ သွားမြင်ကြပြီ သို့သော်အနည်းငယ်သောသွပ်ရည်စွယ်စုံဖြင့်ဆူညံသံကိုမြင့်မားစွာထုတ်လွှင့်သည်။ အခြားပစ္စည်းတစ်ခုမျှသာမဟုတ်ပါ, ၎င်းသည်လျှပ်စစ်မော်တော်ယာဉ်များတွင်ဖြစ်နိုင်သမျှ၏နယ်နိမိတ်များကိုတွန်းအားပေးသည့်အခြေခံအုတ်မြစ်ဖြစ်သည်။

Vetek Semiconductor တွင်, အခြားပစ္စည်းများယိုယွင်းနေသောနေရာတွင်ဖွံ့ဖြိုးရန်အထူးအင်ဂျင်နီယာအဆင့်အတန်းများဖွံ့ဖြိုးဆဲအဆင့်များဖွံ့ဖြိုးဆဲအဆင့်များဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးအတွက်ဖြစ်နိုင်သောနယ်နိမိတ်များကိုတွန်းအားပေးခြင်းတွင်ကျွန်ုပ်တို့အထူးပြုလုပ်ခဲ့သည်။