စက်မှုသတင်း

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်၊ ဓာတုဗေဒနည်းအရ အစီအစဉ်ဆွဲခြင်း (CMP) လုပ်ငန်းစဉ်သည် နောက်ဆက်တွဲ lithography အဆင့်များ၏ အောင်မြင်မှု သို့မဟုတ် ကျရှုံးမှုကို တိုက်ရိုက်အဆုံးအဖြတ်ပေးသည့် wafer မျက်နှာပြင် အစီအစဉ်ရေးဆွဲခြင်း အောင်မြင်မှုအတွက် အဓိကအဆင့်ဖြစ်သည်။ CMP တွင် အရေးပါသော စားသုံးနိုင်သော ပစ္စည်းအဖြစ်၊ Polishing Slurry ၏ စွမ်းဆောင်ရည်သည် ဖယ်ရှားမှုနှုန်း (RR) ကို ထိန်းချုပ်ရန်၊ ချို့ယွင်းချက်များကို လျှော့ချရန်နှင့် အလုံးစုံ အထွက်နှုန်းကို မြှင့်တင်ရာတွင် အဆုံးစွန်သော အချက်ဖြစ်သည်။

တိကျမှုနှင့် လွန်ကဲသောပတ်ဝန်းကျင်များ အတူယှဉ်တွဲတည်ရှိနေသည့် ဆီလီကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှု၏ ရှယ်ယာမြင့်မားသောကမ္ဘာတွင်၊ Silicon Carbide (SiC) အာရုံစူးစိုက်ကွင်းများသည် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။ ၎င်းတို့၏ထူးခြားသောအပူခံနိုင်ရည်၊ ဓာတုတည်ငြိမ်မှုနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာခွန်အားကြောင့် လူသိများသော ဤအစိတ်အပိုင်းများသည် အဆင့်မြင့်ပလာစမာ etching လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အရေးကြီးပါသည်။ ၎င်းတို့၏ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားမှုနောက်ကွယ်တွင် လျှို့ဝှက်ချက်မှာ Solid CVD (Chemical Vapor Deposition) နည်းပညာဖြင့် တည်ရှိနေသည်။ ယနေ့တွင်၊ ဖိုက်ဖိုက်အကြမ်းထည်မှ အကြမ်းထည်ထုတ်လုပ်ရေးခရီးကို စူးစမ်းလေ့လာရန် မြင်ကွင်းနောက်ကွယ်မှ သင့်အား ကျွန်ုပ်တို့ခေါ်ဆောင်သွားပါမည်။

သန့်စင်မှုမြင့်မားသော quartz ပစ္စည်းများသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းတွင် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ ၎င်းတို့၏ သာလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်၊ ချေးခံနိုင်ရည်၊ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် အလင်းပို့လွှတ်ခြင်း ဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းတို့အား အရေးပါသော စားသုံးကုန်များကို ဖြစ်စေသည်။ Quartz ထုတ်ကုန်များကို wafer ထုတ်လုပ်မှု၏ အပူချိန်မြင့် နှင့် အပူချိန်နိမ့်ဇုန် နှစ်ခုလုံးတွင် အစိတ်အပိုင်းများ အတွက် အသုံးပြုပြီး ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်၏ တည်ငြိမ်မှုနှင့် သန့်ရှင်းမှုကို အာမခံပါသည်။