သတင်း

စက်မှုသတင်း

ဆီလီကွန်ကာလက် (SIC) နှင့်ဂယ်ရီယမ် Nitride (Gan) applications (gan) application များအကြားခြားနားချက်ကဘာလဲ။ - Vetek Semiconductor10 2024-10

ဆီလီကွန်ကာလက် (SIC) နှင့်ဂယ်ရီယမ် Nitride (Gan) applications (gan) application များအကြားခြားနားချက်ကဘာလဲ။ - Vetek Semiconductor

Sic နှင့် Gan တို့သည် Silicon အတွက်အားသာချက်များရှိသော bandgap semiconductors များဖြစ်ပြီး, စွမ်းအင်စီးကူးခြင်းကြောင့်မြင့်မားသောဗို့အားမြင့်မားသောလျှပ်စစ်အက်ပလီကေးရှင်းများကပိုမိုကောင်းမွန်သောအီလက်ထရွန်ရွေ့လျားမှုကြောင့်အလွန်အမင်းကြိမ်နှုန်းဖြင့်အဆင့်မြင့်အပလီကေးရှင်းများကြောင့်ပိုမိုကောင်းမွန်သော voltage မြင့်မားသောအပလီကေးရှင်းများပိုမိုကောင်းမွန်သည်။
ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ (PVD) ကို (PVD) အပေါ်ယံပိုင်းဆိုင်ရာအခြေခံမူများ (2/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ (PVD) ကို (PVD) အပေါ်ယံပိုင်းဆိုင်ရာအခြေခံမူများ (2/2) - Vetek Semiconductor

အီလက်ထရွန်အလင်းတန်းများ ရေငွေ့ပျံခြင်းသည် ခံနိုင်ရည်ရှိအပူပေးခြင်းနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက အလွန်ထိရောက်ပြီး အသုံးများသော coating နည်းလမ်းဖြစ်ပြီး ၎င်းသည် အငွေ့ပျံသည့်အရာအား အီလက်ထရွန်အလင်းတန်းဖြင့် အပူပေးကာ ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုအဖြစ် အငွေ့ပျံကာ ပေါင်းစည်းသွားစေသည်။
ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့တပ်ဖွဲ့များအပေါ်ပိုင်းခြားထားသောအခြေခံမူများနှင့်နည်းပညာနည်းပညာ (1/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့တပ်ဖွဲ့များအပေါ်ပိုင်းခြားထားသောအခြေခံမူများနှင့်နည်းပညာနည်းပညာ (1/2) - Vetek Semiconductor

Vacuum အပေါ်ယံပိုင်းတွင်ရုပ်ရှင်ကားအငွေ့ပြောင်းခြင်း, ကွဲပြားခြားနားသောရုပ်ရှင်ကားအငွေ့ပြောင်းခြင်းနည်းလမ်းများနှင့်သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးလုပ်ငန်းစဉ်များအရလေဟာနယ်အပေါ်ယံပိုင်းကို PVD နှင့် CVD အမျိုးအစားနှစ်မျိုးခွဲခြားနိုင်သည်။
X
သင့်အား ပိုမိုကောင်းမွန်သောကြည့်ရှုမှုအတွေ့အကြုံကို ပေးဆောင်ရန်၊ ဆိုက်အသွားအလာကို ပိုင်းခြားစိတ်ဖြာပြီး အကြောင်းအရာကို ပုဂ္ဂိုလ်ရေးသီးသန့်ပြုလုပ်ရန် ကျွန်ုပ်တို့သည် ကွတ်ကီးများကို အသုံးပြုပါသည်။ ဤဆိုက်ကိုအသုံးပြုခြင်းဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ cookies အသုံးပြုမှုကို သင်သဘောတူပါသည်။ကိုယ်ရေးအချက်အလက်မူဝါဒ
ငြင်းပယ်ပါ။လက်ခံပါတယ်။